水处理设备厂商

水处理设备厂商

水处理设备厂商概述：

高纯度水对许多工商业工程非常重要，比如：半导体制造业和制药业。以前这些工业用的纯净水是用离子交换获得的。然而，膜系统和膜处理过程作为预处理过程或离子交换系统的替代品越来越流行。如电除盐过程（EDI）之类的膜系统可以很干净地去除矿物质并可以连续工作。而且，膜处理过程在机械上比离子交换系统简单得多，并不需要酸、碱再生及废水中和。EDI处理过程是膜处理过程中增长快的业务之一。EDI带有特殊水槽，水槽里的液流通道中填充了混床离子交换树脂。EDI主要用于把总固体溶解量（TDS）为1-20mg/L的水源制成8-17兆欧纯净水。

　　EDI装置将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI工作原理如图所示。 EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开，形成浓水室。又在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电的推动下，通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统，成为浓水. EDI设备一般以反渗透（RO）纯水作为EDI给水。RO纯水电阻率一般是40-2μS/cm（25℃）。EDI纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm（25℃），但是根据去离子水用途和系统配置设置，EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm（25℃）的纯水。

进水指标要求

通常为单级反渗透或二级反渗透的渗透水

TEA（总可交换阴离子，以CaCO3计）：＜25ppm。

电导率：＜40μS/cm

ＰH：6.0～9.0。当总硬度低于0.1ppm时，

EDI工作的pH范围为8.0～9.0。

温度： 5～35℃。

进水压力：＜4bar（60psi）。

硬度：（以CaCO3计）：＜1.0ppm。

有机物（ TOC）：＜0.5ppm。

氧化剂：Cl2＜0.05ppm，O3＜0.02ppm。

变价金属： Fe＜0.01ppm，Mn＜0.02ppm。

H2S：＜0.01ppm。

二氧化硅：＜0.5ppm。

色度：＜5APHA。

二氧化碳的总量：＜10ppm

 SDI 15min：＜1.0。