您好, 欢迎来到化工仪器网
| 产地类别 | 进口 | 价格区间 | 10万-30万 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 钢铁/金属,航空航天,汽车及零部件,电气,综合 |
产品简介
详细介绍
新推出的全自动紧凑研磨和全自动金相磨抛系统SAPHIR X-Change与System Lab 2.0*集成，将标准的研磨和抛光设备合为一体，长度达几米，例如用于16种研磨和抛光介质的加油架，集成加药装置和沉淀池。
操作通过直观的触摸屏控件实现自动化。
*力夹很容易手动松开和拧紧，从而简化了样品制备的准备过程。
研磨和抛光介质会自动更改，并且可以在此过程中直接调整所有参数。
半覆盖的工作区具有大面板和挡光板，可提供较高的安全标准。
全自动金相磨抛系统SAPHIR X-Change功能：
•集中力研磨抛光系统
•铝壳，粉末涂层，可调的研磨和抛光头速度
•定量研磨
•触摸屏电子控制
•自动研磨盘更换
•带有水，气体和乙醇的清洁站
•超声波清洁器
•6位自动加液系统，4个位置的钻石悬浮液，1个位置润滑液，终液的1个位置
•磨盘存储抽屉
•45升沉淀池
•具有抗光性以确保安全
技术参数：
工作盘尺寸： | Ø 250 mm |
运行功率： | 1.1 kW S3/40% |
磨抛夹具尺寸： | 160 mm |
磨抛头运行功率： | 0.17 kW S1 |
磨抛头转速： | 30 - 150 rpm |
底盘转速： | 50 - 600 rpm |
定量磨削 (显示精度)： | 0.01 mm |
水压： | 1x fresh water R½" max. 6 bar |
出水口： | 1x waste water DN50 |
压缩空气： | 6 bar. coupling connector NG8 |
宽 x 高 x 深： | 1320 x 1500 x 800 mm |
