合肥科晶 TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪 返回列表页

合肥科晶 TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪

产品概述：

TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪是一款利用反射光谱测试薄膜厚度的仪器，可快速精确地测量透明或半透明薄膜的厚度而不损伤样品表面的薄膜，是一款无损测厚仪，其测量膜厚范围为15nm-50um，测量膜厚范围广，尤其适用于超薄薄膜厚度的测量。仪器所发出测试光的波长范围为400nm-1100nm，波长范围广，因此，测试薄膜厚度的范围广。TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪测试系统的理论基础为镜面光纤反射探头，该仪器尺寸小巧可节省实验室空间，操作方便，读数直观，方便于在实验室中摆放和使用。

测量膜厚范围：15nm-50um

光谱波长：400 nm - 1100 nm

主要测量透明或半透明薄膜厚度：

• 氧化物

• 氮化物

• 光刻胶

• 半导体（硅，单晶硅，多晶硅等）

• 半导体化合物（ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS等）

• 硬涂层（碳化硅，类金刚石炭）

• 聚合物涂层(聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)

• 金属膜

合肥科晶 TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪

特点：

• 测量和数据分析同时进行，可测量单层膜，多层膜，无基底和非均匀膜

• 包含了500多种材料的光学常数，新材料参数也可很容易地添加，支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等

• 体积较小，方便摆放和操作

• 可测量薄膜厚度，材料光学常数和表面粗糙度

• 使用电脑操作，界面中点击，即可进行测量和分析

精度：0.01nm或0.01%

准确度：0.2%或1nm

稳定性：0.02nm或0.02%

光斑尺寸：标准3mm,可以小至3um

要求样品大小：大于1mm

分光仪/检测器：

• 400 - 1100 nm 波长范围

• 光谱分辨率: < 1 nm

• 电源 100 -250 VAC, 50/60 Hz 20W

光源：

• 5W的钨卤素灯

• 色温：2800K

• 使用寿命:1000小时

反射探针：

• 光学纤维探针，400um纤维芯

• 配有分光仪和光源支架

载样台：测量时用于放置测量的样品

通讯接口：USB接口，方便与电脑对接

TFCompanion软件：

• 强大的数据库包含两500多种材料的光学常数（n：折射率，K：消失系数）

• 误差分析和模拟系统，保证在不同环境下对样品测量的准确性

• 可分析简单和复杂的膜系

设备尺寸：200x250x100mm

重量：4.5kg