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Nanoscribe发布全新工业级高精度无掩膜光刻系统

阅读:4856        发布时间:2021/11/11
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全新Quantum X shape:
重新定义高精度,高产量,体验感

 

全新Quantum X shape系统作为Nanoscribe工业级无掩膜光刻系统Quantum X平台产品系列的第二台设备,可实现在25 cm²面积内打印任何结构,大大推动了生命科学,微流体,材料工程学中复杂应用的快速原型制作。Quantum X shape作为具备光敏树脂自动分配功能的直立式打印系统,非常适合标准6英寸晶圆片工业批量加工制造。

 

作为Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系统,Quantum X shape用于快速原型制作和晶圆级批量生产,以充分挖掘3D微纳加工在科研和工业生产领域的潜力。该系统是基于双光子聚合技术(2PP)的专业激光直写系统,可为亚微米精度的2.5D和3D物体的微纳加工提供*的设计自由度。Quantum X shape可实现在6英寸的晶圆片上进行高精度3D微纳加工。这种效率的提升对于晶圆级批量生产尤其重要,这对于科研和工业生产领域应用有着重大意义。总而言之,该系统拓宽了3D微纳加工在多个科研领域和工业行业应用的更多可能性(如生命科学、材料工程、微流体、微纳光学、微机械和微电子机械系统(MEMS)等)。

 

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实现最高精度制作3D微纳加工技术

双光子聚合(2PP)是一种可实现最高精度和*设计自由度的增材制造方法。而作为同类最佳的3D微加工系统Quantum X shape具有下列优异性能:

  • * 在所有空间方向上低至 100 纳米的特征尺寸控制,适用于纳米和微米级打印

  • * 制作高达 50 毫米的目标结构,适用于中尺度打印

 

 

优化平衡精度和速度以提高产量

高速3D微纳加工系统Quantum X shape可实现优异形状精度和高精度制作。这种高质量的打印效果是结合了高科技振镜系统和智能电子系统控制单元的结果,同时还离不开工业级飞秒脉冲激光器以及平稳坚固的花岗岩操作平台。Quantum X  shape具有先进的激光焦点轨迹控制,可操控振镜加速和减速至最佳扫描速度,并以 1 MHz 调制速率动态调整激光功率。

Quantum X shape 带有*的自动界面查找功能,可以以低至 30 纳米的精度检测基板表面。这种在最高扫描速度下的纳米级精度体现,再加上自校准程序,可在最短的时间内实现可靠和准确的打印,为 3D 微纳加工树立了新。这些优异的性能使Quantum X shape 成为快速原型制作和应用于微纳光学

 

 

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使用Nanoscribe微纳加工技术制作的3D微针,轻松实现具有高纵横比,形状精度和锋利边缘的不同设计变化。

 

简单高效的工作流程以实现最佳体验感

光敏树脂的自动分配功能对于晶圆级加工和小批量生产的工业制造十分重要。用户还可以通过设备的集成触控屏直接或远程访问Quantum X shape打印系统来控制打印作业。通过远程访问软件nanoConnectX ,用户可以看到触控屏的显示选项并操控所有功能,实现从任何地方启动、监控和控制连接打印系统的打印作业进程。这使得整个小组成员(例如研究小组货部门所有成员)均可在个人电脑访问打印系统。实现了尽可能限度减少实验室准备时间,简化并提高整个制备、执行和监控打印作业效率,并在共享系统时大大提升团队协作。

 

 

3D微纳加工新势力助力未来科技

Quantum X shape作为理想的快速成型制作工具,可实现通过简单工作流程进行最高精度和高设计自由度的制作。作为2019年推出的第一台双光子灰度光刻 (2GL ®) 系统Quantum X的同系列产品,Quantum X shape提升了3D微纳加工能力,即做到大限度平衡精度和速度以实现高精度增材制造,以达到高水平的生产力和打印质量。总而言之,工业级Quantum X 打印系统系列提供了从纳米到中观尺寸结构的先进的微制造工艺,适用于晶圆级批量加工。

 

 

 

 

更多有关3D双光子无掩模光刻技术和产品咨询

欢迎联系Nanoscribe中国分公司 - 纳糯三维科技(上海)有限公司

 

德国Nanoscribe 超高精度双光子微纳加工系统:

    Photonic Professional GT2   双光子微纳3D无掩模光刻系统

    Quantum X                             双光子灰度光刻微纳打印设备

                                              Quantum X shape                  双光子无掩膜光刻系统

 

 

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