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瑞轩电子科技(上海)有限公司-------国内*仪器仪表供应商
是全国仪器仪表行业“产品研发、销售、技术培训、设备维修”为一体供应商数十年来,发
P+FNBB10-30GK50-E0-M 接近传感器 | NBB2-6,5M30-E2-0,15M-V3-Y |
P+FNBB1-8GS50-Z0-T接近传感器 | NBB2-6,5M30-E2-0,15M-PUR-V3 |
P+FNBB1-3M22-E0-0,3M-V3 | P+FNBB2-6,5M30-E2P+F接近传感器 |
P+FNBB1,5-F79-E3-0,5M接近传感器 | P+FNBB2-6,5M30-E0接近传感器 |
P+FNBB1,5-F79-E3-0,1M-V3 | P+FNBB2-6,5M25-E3-V3接近传感器 |
P+FNBB1,5-F79-E3-5M接近传感器 | P+FNBB2-6,5M25-E2-V3接近传感器 |
P+FNBB10-30GK50-E2-M接近传感器 | P+FNBB2-6,5M25-E1-V3 接近传感器 |
NBB15-30GM50-E2-M-150MM-3DT04 | P+FNBB2-12GM60-E2-T 接近传感器 |
P+FNBB15-U1-A0-M接近传感器 | P+FNBB2-12GM40-E0-5M 接近传感器 |
P+FSB2-Z0 GELB接近传感器 | NBB2-12GM30-E2-5M-PUR接近传感器 |
P+FSJ5-K-N-6M接近传感器 | P+FNBB2-6,5M25-E1-V3接近传感器 |
P+FNBB1,5-F79-E2-5M接近传感器 |
倍加福微型光电传感器R2/R3系列结合了四种外壳设计、三种感应模式和两种强大的技术。 当您为特您为特定的应用选择传感器时,种类的多样性为您带来独有的灵活度。 除了紧凑型型的R2F和R3F系于较小空间,且保证高精度的应用倍加福微型光电传感器R2/R3系列结合了四种外壳设计、三种感应模式和两种强大的技术。 当您为特定的应用选择传感器时,种类的多样性为您带来独有的灵活度。 除了紧凑型倍加福扁平型光电R2F/R3F具有Powerbeam清晰红光和Durabeam激光两种可选光源,红光漫反射0.5ms和激光漫反射0.25ms的快速响应时间大大提高了设备的运行速率,保证了客户的高产能需求。倍加福扁平式光电R2F/R3F具有的背景抑制功能,在检测过程中几乎不受硅片的反射率影响,保证了硅片检测的可靠性。带来独有的灵活度。 除了紧凑型倍加福扁平型光电R2F/R3F具有Powerbeam清晰红光和Durabeam激光两种可选光源,红光漫反射0.5ms和激光漫反射0.25ms的快速响应时间大大提高了设备的运行速率,保证了客户的高产能需求。倍加福扁平式光电R2F/R3F具有的背景抑制功能,在检测过程中几乎不受硅片的反射率影响,保证了硅片检测带来独有的灵活度。 除了紧凑型倍加福扁平型光电R2F/R3F具有Powerbeam清晰红光和Durabeam激光两种可选光源,红光漫反射0.5ms和激光漫反射0.25ms的快速响应时间大大提高了设备的运行速率,保证了客户的高产能需求。倍加福扁平式光电R2F/R3F具有的背景抑制功能,在检测过程中几乎不受硅片的反射率影响,保证了硅片检测带来独有的灵活度。 除了紧凑型倍加福扁平型光电R2F/R3F具有Powerbeam清晰红光和Durabeam激光两种可选光源,红光漫反射0.5ms和激光漫反射0.25ms的快速响应时间大大提高了设备的运行速率,保证了客户的高产能需求。倍加福扁平式光电R2F/R3F具有的背景抑制功能,在检测过程中几乎不受硅片的反射率影响,保证了硅片检测带来独有的灵活度。 除了紧凑型倍加福扁平型光电R2F/R3F具有Powerbeam清晰红光和Durabeam激光两种可选光源,红光漫反射0.5ms和激光漫反射0.25ms的快速响应时间大大提高了设备的运行速率,保证了客户的高产能需求。倍加福扁平式光电R2F/R3F具有的背景抑制功能,在检测过程中几乎不受硅片的反射率影响,保证了硅片检测带来独有的灵活度。 除了紧凑型倍加福扁平型光电R2F/R3F具有Powerbeam清晰红光和Durabeam激光两种可选光源,红光漫反射0.5ms和激光漫反射0.25ms的快速响应时间大大提高了设备的运行速率,保证了客户的高产能需求。倍加福扁平式光电R2F/R3F具有的背景抑制功能,在检测过程中几乎不受硅片的反射率影响,保证了硅片检测带来独有的灵活度。 除了紧凑型倍加福扁平型光电R2F/R3F具有Powerbeam清晰红光和Durabeam激光两种可选光源,红光漫反射0.5ms和激光漫反射0.25ms的快速响应时间大大提高了设备的运行速率,保证了客户的高产能需求。倍加福扁平式光电R2F/R3F具有的背景抑制功能,在检测过程中几乎不受硅片的反射率影响,保证了硅片检测带来独有的灵活度。 除了紧凑型倍加福扁平型光电R2F/R3F具有Powerbeam清晰红光和Durabeam激光两种可选光源,红光漫反射0.5ms和激光漫反射0.25ms的快速响应时间大大提高了设备的运行速率,保证了客户的高产能需求。倍加福扁平式光电R2F/R3F具有的背景抑制功能,在检测过程中几乎不受硅片的反射率影响,保证了硅片检测带来独有的灵活度。 除了紧凑型倍加福扁平型光电R2F/R3F具有Powerbeam清晰红光和Durabeam激光两种可选光源,红光漫反射0.5ms和激光漫反射0.25ms的快速响应时间大大提高了设备的运行速率,保证了客户的高产能需求。倍加福扁平式光电R2F/R3F具有的背景抑制功能,在检测过程中几乎不受硅片的反射率影响,保证了硅片检测带来独有的灵活度。 除了紧凑型倍加福扁平型光电R2F/R3F具有Powerbeam清晰红光和Durabeam激光两种可选光源,红光漫反射0.5ms和激光漫反射0.25ms的快速响应时间大大提高了设备的运行速率,保证了客户的高产能需求。倍加福扁平式光电R2F/R3F具有的背景抑制功能,在检测过程中几乎不受硅片的反射率影响,保证了硅片检测带来独有的灵活度。 除了紧凑型倍加福扁平型光电R2F/R3F具有Powerbeam清晰红光和Durabeam激光两种可选光源,红光漫反射0.5ms和激光漫反射0.25ms的快速响应时间大大提高了设备的运行速率,保证了客户的高产能需求。倍加福扁平式光电R2F/R3F具有的背景抑制功能,在检测过程中几乎不受硅片的反射率影响,保证了硅片检测带来独有的灵活度。 除了紧凑型倍加福扁平型光电R2F/R3F具有Powerbeam清晰红光和Durabeam激光两种可选光源,红光漫反射0.5ms和激光漫反射0.25ms的快速响应时间大大提高了设备的运行速率,保证了客户的高产能需求。倍加福扁平式光电R2F/R3F具有的背景抑制功能,在检测过程中几乎不受硅片的反射率影响,保证了硅片检测