PHI Versaprobe 4 X射线光电子能谱仪

XPS 作为一种重要的表面分析方法，广泛应用于固体材料表面的元素组分和化学态的研究，例如电池材料，催化剂，集成电路，半导体，金属，聚合物，陶瓷和玻璃等，可满足从研发到失效分析的广泛分析需求。VersaPrabe4 采用了全新设计的高灵敏分析器，灵敏度是上一代的2倍，具有更低的检测限，能够实现从微区到大面积的高灵敏度化学分析。微聚焦扫描X射线和SXI影像，通过类似SEM的SXI影响可以作为样品导航，实现100%精准地定义微区分析位置

PHI Versaprobe 4 X射线光电子能谱仪应用范围：

包括表面的元素与化学态分析（氢和氦除外）。

表面物种的化学状态的识别，包括有机和无机材料，导体和绝缘体。

深入薄膜中的组成元素分布概况，包括半导体、薄膜结构，磁介质薄膜，光学镀膜，装饰涂料，和耐磨涂层。

在必须避免会对电子束技术有破坏性效果时的样品成分分析。