高基体样品中多种痕量元素的测定一直是一个困难的 分析挑战。ICP 光学发射光谱（OES）具有优良的基 体承受能力和多元素同时分析能力，但灵敏度不足， 而且易受到复杂的光谱干扰。ICP-MS 具有难以逾越 的灵敏度和较少的干扰，但对可溶固体含量必须限制 到大约 0.1% 或更低。

我们将 安捷伦ICP-MS（以及 ICP-OES）的稳定性和其它性 能对于高溶解固体的耐受能力定义为“耐用性”。在 ICP-MS 中，这种耐用性是通过测量调谐的 CeO+/Ce+ 比值来评价的，CeO+ /Ce+ 比值越低意味着该等离子体 越耐用。

安捷伦先研发了许多新技术以改善其耐用性，包括 一种优化的低流速样品引入系统，该系统的炬管内 径较宽（2.5 mm），采用数字驱动的 27 MHz 射频发生器。这些创新技术使 Agilent 7500 八极杆反应池系 统（ORS）比其他任何 ICP-MS 都具有更好的高基体 样品分析性能，CeO+/Ce+ 比值大约 1%，而其他仪器 一般是 2%-3%。不过，即使拥有这些创新技术，但为 了获得稳定性，仍需限制总溶解固体（TDS）。 一般来讲，这意味着样品的稀释会随之带来一些缺点， 包括检出限变差，样品污染的可能性增加，制备时间 增加以及废液体积增加等。