真空喷铸甩带熔炼炉

一、真空喷铸甩带熔炼炉 设备用途:

KSD-0.05真空熔炼甩带一体炉是用来制备和开发亚稳材料(如非晶态材料)的专用设备，该设备除了具有感应炉的全部特点外，还具有制备块体金属非晶及金属薄带的功能,适用于各种非晶及微晶材料的研究及实验工作,，广泛用于新型稀土永磁材料非晶软磁材料及纳米材料科学的开发与研究。

二、真空喷铸甩带熔炼炉 设备配置：

设备有高真空腔室，高真空系统，甩带收集装置，稳压储气装置，伺服甩带装置，坩埚升降装置，感应加热装置，水冷装置等组成.

三、主要技术参数

1.产品型号：KSD-0.05

2.供电电源：三相五线 AC380V 50HZ 15KW

3.甩带样品熔炼量：10-50g;（注：用于做带状非晶）

4.辊轮尺寸：  φ200mmx40mm  φ240mmx40mm(可根据需要定制）表面光洁度0.8以上（注：甩带一般是在1秒内完成，铜轮温升基本无变化）  铜轮配置两个规格各一件

5.单棍旋转装置（甩带）：铜棍速度：1-3000r/min;（注：伺服电机控制无极调速可实现线速度3-40m/s的线速度调节）

6. 甩带升降：甩带升降采用伺服电动升降，可精密调节坩埚与铜辊的精确位置。

7.喷铸容量：10-50g （注：用于做小块非晶棒料，板料）

8·配置喷铸模具1套（包含¢3*70mm  ¢5*70mm  ¢8*70mm三个规格 ）

9. 喷铸升降：喷铸升降采用气缸电动升降，可手动精密调节坩埚与铜模之间的精确位置。