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高真空CVD管式炉

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具体成交价以合同协议为准
  • 型号 TN-G1100ZC
  • 品牌 其他品牌
  • 厂商性质 生产商
  • 所在地 郑州市
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更新时间:2022-02-28 14:36:00浏览次数:849

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产品简介

产地类别 国产 应用领域 环保,石油,地矿,钢铁/金属,制药/生物制药
TN-G1100ZC高真空CVD管式炉主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积(CVD)工艺等

详细介绍

 

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TN-G1100ZC高真空CVD管式炉

该仪器是一个三温区真空管式炉主要用于大专院校、科研院所、工矿企业等试验和小批量生产之用。主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积(CVD)工艺等。

仪器的控制系统,采用双层风冷结构;炉膛采用高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型;加热元件为进口电阻丝,配有真空装置,可在多种气氛下工作,大大提高了其使用范围。该炉具有使用温度高,操作简单,维修方便等特点,可广泛用于冶金,机械,轻工,商检,高等院校及科研部门。玻璃封装、陶瓷电子元件、磁性材料、粉末冶金等产品的排胶,预烧和烧成,智能高温箱式炉,也可用于稀土发光材料及其他材料的热处理工艺。

具有操作容易,安全可靠,控温精度高(专家PID控制),保温效果好,温度范围大,炉膛温度均匀性高,温区多,可通气泵,抽真空等特点

TN-G1100ZC高真空CVD管式炉炉体采用数控机床加工,经抛光、打磨、酸洗、磷化、喷涂塑粉、高温烘烤等制作而成具备了抗氧化、耐酸碱、耐腐蚀、耐高温、容易清理


1

产品名称

TN-G1100ZC型高真空CVD管式炉

2

产品型号

TN-G1100ZC-503        炉膛尺寸:直径50x300mm

TN-G1100ZC-603        炉膛尺寸:直径60x300mm

TN-G1100ZC-803        炉膛尺寸:直径80x300mm

3

炉门结构

开启式

4

上限温度

1200℃

5

工作温度

≤1100℃

6

加热温区

三温区

7

  温区长度

220mm

8

恒温区长

100mm

9

炉管材质

301S不锈钢管(可选刚玉管)

10

密封方式

不锈钢真空法兰

11

气密性

真空法兰和石英炉管的气密性可达4.03x10-3Pa

12

控温方式

智能化30段可编程控制,自动控温

13

控温精度

±1℃

14

加热速率

≤20℃

15

加热元件

硅碳棒

16

热电偶

K型热电偶

17

炉膛材料

进口氧化铝陶瓷纤维

18

功率

2.5Kw

19

电压

220V  50Hz-60Hz

20

系统真空

5~10Pa(需要达到其它真空度时,需选配不同的抽真空装置)

21

售后服务

12个月质保,终身保修


 

 

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