离子溅射仪

离子溅射仪

产品介绍：

TT-29-LZ-Ⅱ离子溅射仪是一种小型镀膜装置，可用作扫描电镜、电子探针等仪器进行试样制备，是开展教学科研实验的*仪器。

镀膜原理与结构：

TT-29-LZ-Ⅱ镀膜基本原理是基于荷能正离子轰击靶电极产生溅射现象，靶被溅射出来的中性原子沉淀于基台上样品表面成膜，形成导电层。

该为二极结构，以基台和样品架为正电极与仪器外壳相连并接地，溅射靶电极为负电极（加负高压），它们被安装在玻璃罩的真空腔内，当腔内达到一定真空度，在负高压的作用下发生辉光放电产生等离子体，其中正离子在电场加速下，获得足够能量轰击负电极上的靶面，靶面被溅射原子沉淀于基台的样品表面形成导电膜，以供上述仪器分析。

技术参数：

1、型号：TT-29-LZ-Ⅱ

1、真空腔：￠150×12   硼酸硅质玻璃

2、溅射靶尺寸：￠55×0.3

3、基台：   ￠50  6-8个样品

4、极间距调节范围20-40mm

5、溅射电压：  -2000V-0  DC连续可调

  溅射电流0-30 mA

6、定时器：0-99分数字显示

7、真空测量：1×105-1.0×10-1pa  数字显示，单片机控制，数字显示，具有真空保护锁设置。

8、控制系统：单片机控制，完成真空自动测量、显示、定时器倒计时功能以及自动完成镀膜程序。

9、真空泵：2L/S二级旋片式直联机械泵，极限真空度6×10-1pa

10、充气阀：金属微调针型阀   保护气体  99.9%纯度氩气（*）

11、外形尺寸：长354mm ×高216mm ×深340mm

12、电源：AC 220V  50HZ

特点：

1、人性化设计，整体性好；

2、单片机控制，操作方便简洁；

3、用户可根据实验需要自由设置溅射操作的工艺参数，使用灵活、方便；

4、仪器有真空锁保护设置，使仪器可靠性安全性好；