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详细介绍
天威蓄电池6-FM-5 12V5AH*报价/含税运
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售后体现公司对客户的呵护。 注：为方便客户关于ups电源以及蓄电池方面的需求，我公司特推出24小时：113521641135 /。（节假日不休）！通知：本公司在2011年03-08日荣获德国（德国阳光蓄电池）总部，研发部合作机会 并且采用（德国阳光蓄电池）技术研发出德国荷力克蓄电池。
电镀时间的计算：
电镀时间(分)==电镀子槽总长度(米)/ 产速(米/分)
例：某一连续电镀设备，每一个镀镍子槽长为1.0米，共有五个，生产速度为10米/ 分，请问电镀时间为多少?
电镀时间(分)==1.0×5/10==0.5(分)
理论厚度的计算：由法拉第两大定律导出下列公式：
理论厚度Z(µ``)==2.448CTM/ ND
(Z厚度，T时间，M原子量，N电荷数，D密度，C电流密度)
举例：镍密度8.9g/cm3，电荷数2，原子量58.69，试问镍电镀理论厚度?
Z==2.448 CTM/ ND
==2.448CT×58.69 /2×8.9
==8.07CT
若电流密度为1Amp/ dm2(1ASD)，电镀时间为一分钟，则理论厚度
Z==8.07×1×1==8.07µ``
金理论厚度==24.98CT(密度19.3，分子量196.9665，电荷数1)
铜理论厚度==8.74 CT(密度8.9，分子量63.546，电荷数2)
银理论厚度==25.15 CT(密度10.5，分子量107.868，电荷数1)
钯理论厚度==10.85 CT(密度12.00，分子量106.42，电荷数2)
80/20钯镍理论厚度==10.42 CT(密度11.38，分子量96.874，电荷数2)
90/10锡铅理论厚度==20.28 CT(密度7.713，分子量127.8，电荷数2)
综合计算A：
假设电镀一批D-25P-10SnPb端子，数量为20万支，生产速度为20M/分，每个镍槽镍电流为50 Amp，金电流为4 Amp，锡铅电流为40 Amp，实际电镀所测出厚度镍为43µ``，金为11.5µ``，锡铅为150µ``，每个电镀槽长皆为2米，镍槽3个，金槽2个，锡铅槽3个，每支端子镀镍面积为82平方毫米，镀金面积为20平方毫米，镀锡铅面积为46平方毫米，每支端子间距为0.6毫米，请问：1.20万只端子，须多久可以完成?2.总耗金量为多少g?，换算PGC为多少g?，3.每个镍，金，锡铅槽电流密度各为多少?4.每个镍，金，锡铅电镀效率为多少?
解答：1. 20万支端子总长度==200000×6==1200000==1200M
20万支端子耗时==1200/ 20 ==60分==1Hr
2. 20万支端子总面积==200000×20==4000000mm2==400dm2
20万支端子耗纯金量==0.0049AZ==0.0049×400×11.5==22.54g
20万支端子耗PGC量==22.54 / 0.681==33.1g
3. 每个镍槽电镀面积==2×1000×82 / 6==27333.33mm2==2.73dm2
每个镍槽电流密度==50 /2.73 ==18.32ASD
每个金槽电镀面积==2×1000×20 / 6==6666.667mm2==0.67dm2
每个镍槽电流密度==4 /0.67 ==5.97ASD
每个锡铅槽电镀面积==2×1000×46 / 6==15333.33mm2==1.53dm2
每个镍槽电流密度==40 /1.53 ==26.14ASD
4. 镍电镀时间==3×2 /20==0.3分
镍理论厚度==8.07CT==8.07×18.32×0.3==44.35
镍电镀效率==43 /44.35 ==97%
金电镀时间==2×2 /20==0.2分
金理论厚度==24.98CT==24.98×5.97×0.2==29.83
金电镀效率==11.5/29.83 ==38.6%
锡铅电镀时间==3×2 /20==0.3分
锡铅理论厚度==20.28CT==20.28×26.14×0.3==159
锡铅电镀效率==150/159 ==94.3%
综合计算B：
今有一客户委托电镀加工一端子，数量总为5000K，其电镀规格为镍50µ``，金GF，锡铅为100µ``。
1.设定厚度各为：镍60µ``，金1.3µ``，锡铅120µ``。
2.假设效率各为：镍90%，金20%，锡铅80%。
3.可使用电流密度范围各为：镍设定15ASD，金0~10ASD，锡铅2~30ASD。
4.电镀槽长各为：镍6米，金2米，锡铅6米。
5.端子间距为2.54mm。
6.单支电镀面积各为：金15mm2，镍54mm2，锡铅29mm2。
请问：1.产速为多少?
2.需要多少时间才能生产完毕?(不包含开关机时间)
3.镍电流各为多少安培?
4.金，锡铅电流密度及电流各为多少?
解答：
1.镍效率==镍设定膜厚 / 镍理论膜厚 0.9==60 /Z Z=67µ``(镍理论膜厚)
镍理论膜厚==8.074CT 67==8.074×15×T T==0.553分(电镀时间)
镍电镀时间==镍电镀槽长 / 产速 0.553 = 6 /V V=10.85米 /分(产速)
2.完成时间==总量×0.001×端子间距 /产速
t==5000000×0.001×2.54 /10.85==1170.5分 1170.5 /60==19.5Hr(完成时间)
3.镍电镀总面积==镍电镀槽长 / 端子间距×单支镍电镀面积
M=6×1000 /2.54 ×54 ==127559mm2==12.7559dm2
镍电流密度==镍电流 /镍电镀总面积 15==A /12.7559 A==191安培
4.金效率==金设定膜厚 /金理论膜厚
0.2==1.3 /Z Z=6.5µ``(金理论膜厚)
金电镀时间==金电镀槽长 /产速 T=2 /10.85==0.1843分
金理论膜厚==24.98CT 6.5==24.98×C×0.1843 C==1.412ASD(电流密度)
金电镀总面积==金电镀槽长 /端子间距×单支金电镀面积
M=2×1000 /2.54 ×15 ==11811mm2==1.1811dm2
金电流密度==金电流 /金电镀总面积 1.412==A /1.1811 A==1.67安培
锡铅效率 ==锡铅设定膜厚 /锡铅理论膜厚
0.8==120 /Z Z==150µ``(锡铅理论膜厚)
锡铅电镀时间==锡铅电镀槽长 /产速 T= 6/10.85==0.553分
锡铅理论膜厚==20.28CT 150==20.28×C×0.553 C==13.38ASD(电流密度)
锡铅电镀总面积==锡铅电镀槽长 /端子间距×单支锡铅电镀面积
M=6×1000 /2.54 ×==锡铅电流 /锡铅电镀总面积 13.38==A /6.8504 A==91.7安培