镓酸钕(NdGaO3)晶体基片(单面或双面抛光)
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镓酸钕(NdGaO3)晶体基片(单面或双面抛光)
镓酸钕（NdGaO3）晶体基片是近十年中发展起来的基片，主要用作高温导体（如YBCO）及磁性材料的外延薄膜生长用基片。由于NdGaO3与YBCO的晶格失配很小（~0.27%），且无结构相变，在NdGaO3基片上可外延生长质量的薄膜。
镓酸钕（NdGaO3）晶体基片主要性能参数
晶体结构 | 正交 |
晶胞参数Å | a=5.43、b=5.50、c=7.71 |
熔点 | 1600℃ |
密度 | 7.57g/cm3 |
介电常数 | 25 |
生长方法 | 提拉法 |
尺寸 | 10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20， Ф15,Ф20，Ф1″，Ф2″,Ф2.6″ |
厚度 | 0.5mm，1.0mm |
抛光 | 单面或双面 |
晶向 | ＜100＞ ＜110＞ ＜111＞ |
晶面定向精度: | ±0.5° |
边缘定向精度: | 2°（要求可达1°以内） |
斜切晶片 | 可按某些需求，加工边缘取向的晶面按某些角度倾斜（倾斜角1°－45°）的晶片 |
Ra: | ≤5Å（5µm×5µm） |
包装 | 100级洁净袋，1000级净室 |
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