射频驱动(兆赫兹和/或千赫兹)的顶电极;底(衬底)电极上没有射频偏压
衬底直接置于加热电极上
气体通过顶电极上的喷淋头式进气口进入反应室
工作压强0.5-1.0托
功率密度0.02-0.1Wcm-2
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参考价 | 面议 |
更新时间:2015-11-10 05:14:21浏览次数:1495
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Benefits 优点
牛津仪器的PECVD工具
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特征 | Plasmalab System80Plus | Plasmalab System800Plus | Plasmalab System100 | Plasmalab System133 |
电极尺寸 | 240mm | 460mm | 240mm | 330mm |
进样方式 | 开放进样 | 开放进样 | 真空进样 | 真空进样 |
衬底 | 见产品手册 | 见产品手册 | 8英寸,可以选择多片或小片的载片台 | 12英寸,可以选择多片或小片的载片台 |
掺杂剂 | 不行 | 不行 | 包括PH3,B2H6和GeH4在内的多种掺杂剂 | 包括PH3,B2H6和GeH4在内的多种掺杂剂 |
液体源 | 不行 | 不行 | 可以,正硅酸乙酯 | 可以,正硅酸乙酯 |
质量流量计控制的气体管线 | 可使用8或12根管线 | 可使用8或12根管线 | 可使用8或12根管线 | 可使用8或12根管线 |
用于应力控制的射频转换开关 | 可以 | 可以 | 可以 | 可以 |
载片台温度范围 | 20°C 到400°C | 20°C 到400°C | 标准的是20°C 到400°C,可选zui高到800°C | 标准的是20°C 到400°C,可选zui高到700°C |
在位等离子体清洗 | 可以 |
| 可以,结束点可控以获得*清洗时间 | 可以,结束点可控以获得*清洗时间 |
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