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物理气相沉积(PVD)

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更新时间:2015-11-11 08:19:09浏览次数:1020

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产品简介

典型的工艺压强:5-30毫托

良好的台阶覆盖率
针对高质量Al(含Si/CuTi)、TiN、TiW的标准方法
Z大 4 x 200mm 或 8 x 75mm阴极
衬底置于旋转座上
衬底座可以水冷却/加热(Z高400oC)
预刻蚀和射频偏压
参数:气流、压强、射频功率

详细介绍

典型应用:

  1. 高质量Al(含Si/Cu/Ti)
  2. 扩散阻挡层TiN、TiW(反应溅射)
  3. 电阻薄膜 (NiCr、TaN)
  4. 贵金属:Au、Pt

 

特征

 System400

System100

磁控管尺寸

zui大200mm

zui大200mm

磁控管个数

4 x 200mm

单个

射频和直流选择

可以

可以

射频偏压

可以

可以

进样

真空进样

真空进样

衬底

见手册

见手册

质量流量计控制的气体管线

典型的zui大到4

典型的4

载片台温度范围

20300ºC

 

 

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