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二氧化铪反应离子束沉积(HfO2 RIBD)

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更新时间:2015-11-10 09:56:52浏览次数:916

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产品简介

二氧化铪反应离子束沉积(HfO2 RIBD)

详细介绍

使用Ionfab300Plus (LC)的HfO2 RIBD技术

  • 预清洁:35cm的源可以对zui大8英寸的衬底进行预清洁
  • 沉积气体:Ar、O2
  • 晶圆尺寸zui大可以达到200mm

 

 

注释:

1. 边缘有5mm的范围,均匀性的描述见下文

2. 沉积速率达到zui大速率的50%以上时,应力和均匀性仍然可以得到保证

  Ionfab 300Plus for HfO2 RIBD

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