NMC-3000等离子辅助MOCVD 返回列表页

等离子辅助MOCVD技术

NMC-3000等离子辅助MOCVD概述：NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10^-7Torr极限真空)、PC全自动控制，*的安全互锁。

目前，这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统，该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。

NMC-3000等离子辅助MOCVD应用：Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)

NMC-3000等离子辅助MOCVD系统特点：

• 台式系统
• 5个带独立冷却槽的起泡器
• 加热的气体管路
• 950 °C样品台，2”晶圆片
• 3个气体环
• RF等离子源，带淋浴头气体分布
• 工艺完成后N2自动冲洗
• 极限真空5x10-7Torr
• 260 l/s的涡轮分子泵串接无油干泵
• 通过LabView软件实现PC计算机全自动控制
• 菜单驱动，4级密码访问控制
• 完整的安全联锁