等离子去胶机：NANO-MASTER 等离子去胶和等离子灰化机是专门设计用来满足晶圆批处理或单晶片处理，具有广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系...

兆声清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离，以及湿法刻蚀。该系统配套机械手，也可以升级...

硅片清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗...

进口晶圆清洗机：Nano-Master进口兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、...

SWC-3000兆声晶圆（掩模版）清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆...

NPC-3500（A）研发用等离子去胶机：NANO-MASTER 等离子去胶和等离子清洗机是专门设计用来满足晶圆批处理或单晶片处理，具有广泛应用，从晶圆的光刻胶...

研发用等离子去胶机：Alpha等离子系统ASTRO96是一款低压微波等离子系统，用于键合、模塑、焊锡球黏合前的先进芯片封装清洗，以及倒装芯片清洗。ASTRO96...

Q240微波等离子去胶清洗机：Q系列等离子清洗机是石英腔的微波等离子系统，可以安装到超净间墙上。该系列的微波等离子系统可以用于批处理，也可以作为单片处理，系统为...

Q235微波等离子去胶清洗机：Q系列等离子清洗机是石英腔的微波等离子系统，可以安装到超净间墙上。该系列的微波等离子系统可以用于批处理，也可以作为单片处理，系统为...

Q150微波等离子去胶清洗机：Q系列等离子清洗机是石英腔的微波等离子系统，可以安装到超净间墙上。该系列的微波等离子系统可以用于批处理，也可以作为单片处理，系统为...

ASTRO96全自动微波等离子清洗系统：Alpha等离子系统ASTRO96是一款低压微波等离子系统，用于键合、模塑、焊锡球黏合前的先进芯片封装清洗，以及倒装芯片...

AL76C立式微波等离子去胶清洗机：AL76C为一体式紧凑型等离子系统，适用于批量生产，也可以i满足研发及实验室应用。并且，此系统可以满足360度的芯片封装需要...

AL76微波等离子去胶清洗机：AL76等离子系统适用于批量生产，也可以i满足研发及实验室应用。并且，此系统可以满足360度的芯片封装需要、工业、医药等领域。AL...

AL18微波等离子去胶清洗机：AL18等离子系统适用于小批量生产和研发的*设备。并且，此系统可以满足360度的芯片封装需要。AL18系统是一款创新型的通用设备，...

NIE-3500（M）离子束清洗系统：是一款手动放片/取片，但工艺过程为全自动计算机控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣。

NIE-3500（A）全自动离子束清洗系统：是一款自动放片/取片，并且工艺过程为全自动计算机控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、...

NIE-3000离子束清洗系统：是一款手动放片/取片，但工艺过程为全自动计算机控制的台式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣等。

LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统：Nano-Master兆声大基片湿法刻蚀系统提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离，以及湿法刻...

LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统：Nano-Master兆声大基片湿法刻蚀系统提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离。它是集成式的...

SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离，以及湿法刻蚀。该...