在半导体企业的厂务和制程端，pH测量作为关键工艺参数之一，其准确性和可靠性对于生产高质量的半导体产品至关重要；然而，这一环节也面临着诸多挑战。

在厂务端，废水和纯水的处理是关键环节。废水中可能含有各种化学物质，其pH值的准确测量对确保废水处理工艺的有效性和环境合规性至关重要。同时，纯水的pH值也需要精确控制，以确保生产过程的稳定性和产品质量。然而，由于废水和纯水中可能存在温度波动及颗粒物等干扰，pH测量往往面临准确性和稳定性的挑战。

在制程端，半导体制造涉及多个复杂工艺步骤，如清洗、蚀刻、沉积等。这些工艺步骤中使用的化学品和反应条件对pH值有着严格的要求。然而，制程中的化学反应、气体释放、温度变化等因素都可能导致pH值波动，从而对产品质量和良率产生直接影响。因此，制程端的pH测量需要具备高度的精确性、稳定性和响应速度，以应对不断变化的工艺条件。

为了应对这些挑战，选择适合的pH传感器并进行正确的使用和维护至关重要。

近期，梅特勒托利多针对半导体行业开展了pH传感器主题的直播，深入探讨如何根据工况选择合适的电极、如何借助先进的管理软件以及自清洗技术为pH传感器的测量提供保障。

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直播讲师

张军义

梅特勒托利多

过程分析

资深产品经理