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| 价格区间 | 面议 | 应用领域 | 医疗卫生,环保,化工,电子/电池 |
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| 组件类别 | 光学元件 |
BrightLine® BasicTM单波段滤光片组
*的Semrock，这些滤光片组合一个高效的偏振器和一个单光学元件的带通滤光片!这些滤光片是具有对比度的*的线性偏振器超过1000000 - 1。此外，具有高性能的带通特性(包括高透射和陡缘)，他们制造了一个的激光源清除滤光片(消除了激光波长的不需要的偏振和光噪声)，以及通过激光波长范围和阻挡背景噪声的检测滤光片。美国号8879150。
semrock的偏振带通滤光片是各种实验室激光应用的理想选择，特别是那些涉及全息干涉系统，以及荧光偏振检测和成像，二次谐波成像、通信、测距极化分集检测、激光材料加工、激光强度控制。
这些*的偏振带通滤光片提供了一个*的线性偏振器和优化的带通滤光片在单一光学元件。对比率＞1000000:1高传输（> 95%）在优化通带（为p偏振光）的光学质量-低散射，波前畸变和光束偏移硬涂层的可靠性和高的激光损伤阈值（1焦耳/平方厘米）自然提供了大孔径大小和90º分束器的功能25毫米和25.2×35.6毫米滤光片大小可用
BrightLine® BasicTM单波段滤光片组
标称激光波长 | AOI的波长范围= 45°±0.5° | 用于标称激光波长的AOI范围 | OD 2平均偏振屏蔽范围 | 平均OD 6 s-pol阻断范围 | 6 p-pol阻断范围的平均值 | 型号 |
355 nm | 346 – 361 nm | 38° – 52° | 434 – 1100 nm | 300 – 455 nm | 300 – 339 nm 369 – 434 nm | PBP01-353/15- |
405 nm | 400 – 410 nm | 41° – 51° | 300 – 332 nm 490 – 1100 nm | 320 – 516 nm | 332 – 388 nm 422 – 490 nm | PBP01-405/10- |
532 nm | 518 – 541 nm | 38° – 52° | 300 – 418 nm 664 – 1100 nm | 400 – 695 nm | 418 – 502 nm 557 – 664 nm | PBP01-529/23- |
640 nm | 628.5 – 650 nm | 40.5° – 51° | 300 – 511 nm 795 – 1100 nm | 488 – 840 nm | 511 – 602 nm 675 – 795 nm | PBP01-639/21- |
1064 nm | 1038 – 1081 nm | 39° – 51° | 300 – 851 nm 1307 – 1750 nm | 720 – 1393 nm | 851 – 996 nm 1120 – 1307 nm | PBP01- 1059/43- |
Beamsplitter Mount | Part Number |
Designed for single, 25.2 x 35.6 x 1.0 to 2.0 mm beamsplitters in laboratory bench- set ups. | BSM |
常用规格
属性 | Value | Comments |
保证传输率 | > 95% | p-polarized light |
比例 | 1,000,000:1 | Ratio of transmission through two identical aligned polarizers to transmission through same pair of crossed polarizers |
Blocking | See table on page 80 | AOI tolerance (See table on page 80) |
Nominal Angle of Incidence | 45° | 10 ns pulse width p-pol (See page 102) |
激光损伤阈值 | 1 J/cm² @ 532 nm |
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基底材料 | Ultra-low autofluorescence fused silica |
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尺寸和公差 | 25.2 mm x 35.6 mm x 2.0 mm +/- 0.1 mm 25.0 mm x 2.0 mm +/- 0.1 mm | Mount options on page 80 for 25.2 x 35.6 mm size 25.0 mm (unmounted) |
通光孔径 | ≥ 85% | Elliptical, for all optical specifications |
透射波前误差 | < λ/4 RMS at λ = 633 nm | Peak-to-valley error < 5 x RMS value measured within clear aperture |
光束偏差 | ≤ 10 arc seconds | Measured per inch |
表面质量 | 40-20 scratch-dig | Measured within clear aperture |
Orientation | Coating (Text) towards light Coating (Text) away from light | For use as a polarizer For use as an analyzer |
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