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当前位置：钢研纳克检测技术股份有限公司>>电感耦合等离子体光谱仪>>全谱ICP光谱仪>> Plasma 3000全谱ICP光谱仪
全谱ICP光谱仪仪器特点：
分光系统
径向观测与轴向观测设计，适应亚ppm到高含量的元素测量。中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，使用CaF2棱镜，提高光路传输效率。优化的光学设计，采用非球面光学元件，改善成像质量，提高光谱采集效率。光室气体氛围保持技术，缩短光室充气时间，提高紫外光谱灵敏度及稳定性，开机即可测量。包围式立体控温系统，保障光学系统长期稳定无漂移。
光源
固态射频发生器，高效稳定，体积小巧，效率高，匹配速度快，能适应各种复杂基体样品及挥发性有机溶剂的测试，均能获得优异的长期稳定性。垂直炬管的设计，具有更好的样品耐受性，减少了清洁需求，降低了备用炬管的消耗。冷锥消除尾焰技术，极大地降低自吸效应和电离干扰，从而获得更宽的动态线性范围和更低的背景，保证准确的测量结果。具有绿色节能待机模式，待机时降低输出功率，减小气体流量，仅维持等离子体运行，节约使用成本。
简洁的炬管安装定位设计，快速定位，精确的位置重现。实时监控仪器运行参数，高性能CAN工业现场总线，保障通讯高效可靠。
进样系统
简洁的炬管安装设计，自动定位炬管位置，精确的位置重现。仪器配备系列经过优化的进样系统，可用于有机溶剂、高盐/复杂基体样品、含HF等样品的测试。
使用可拆卸式或一体式炬管，易于维护，转换快速，使用成本低。使用质量流量控制器控制冷却气、辅助气和载气的流量，保障测试性能长期稳定。多通道12滚轮蠕动泵，提升样品导入稳定性。
检测器
大面积背照式CCD检测器,全谱段响应，高紫外量子化效率，抗饱和溢出，具有极宽的动态范围和极快的信号处理速度。一次曝光，完成全谱光谱信号的采集读取，从而获得更为快速、准确的分析结果。同类产品中大靶面尺寸，像素，单像素面积24μmX24μm，三级半导体制冷,制冷温度低，具有更低的噪声和更好的稳定性。
软件系统
人性化的界面设计，流畅易懂，简便易用，针对分析应用优化的软件系统，无须复杂的方法开发，即可快速开展分析操作。
丰富的谱线库，智能提示潜在干扰元素，帮助用户合理选择分析谱线。轻松的观测方式设置，直观的测试结果显示。
安全防护
电磁屏蔽，减少电磁辐射连锁门保护，避免用户误操作可能带来的风险防紫外观测窗
全谱ICP光谱仪技术参数：
分析性能
检出限：亚ppb-ppb短期稳定性：RSD≤0.5%(1mg/L)长期稳定性：RSD≤1.0%(4h，1mg/L)
光源
自激式固态射频发生器，功率连续1瓦可调震荡频率：27.12MHz
输出功率：700W-1600W功率稳定性：<0.1%
仪器规格
尺寸：宽x深x高(106cmx67cmx75cm)重量：约180kg
光学系统
分析谱线范围：165-950nm
分辨率：0.007nm@200nm光室恒温：38℃±0.1℃
CCD像素：1024x1024
单像素面积：24μmx24μm
工作环境
实验室湿度环境：相对湿度20%~80%氩气纯度：不小于99.95%
排风：不小于400立方米/小时
电源：200V~240VAC单相；50Hz~60Hz；4kVA
