奥地利EVK高光谱相机

EVK自成立以来一直致力于开发高光谱成像及传感器类产品及解决方案，除了能够对物料流中的对象进行分析和分类并实时做出准确决策的*传感器系统之外，EVK还设计了数据分析中的应用程序，用于分类，检查，过程监控和过程控制。多年来通过不断地发展，EVK在循环，采矿，食品工业，制药和化学工业中基于传感器的分类和分析系统的开发和制造方面有一定地位。拥有技术团队的支持，从概念构思到调试和售后支持，可以为客户需求提供高品质的产品及服务。

产品范围：

奥地利EVK传感器、高光谱相机、高光谱摄相机

主要型号：

EQ32、Helios NIR G2 320 Class、Helios NIR G2 320 CORE

应用：

食品加工、矿业、制药业

相关产品介绍：

EQ32

描述：

EVK HELIOS EQ32高光谱成像系统是一款功能强大的分析工具，基于非接触式和无损实时红外成像光谱技术。

EVK HELIOS系统分析物体的化学特性，并区分彩色相机不可见的材料类型。内部处理引擎可提供物料流的定性和定量信息，例如分析物浓度或材料成分。

摄像机附带的即插即用组件经过全面的内部校准。 Helios EQ32采用紧凑，坚固的不锈钢外壳，具有应力去耦的光机械特性。

该系统针对实际工业环境进行了优化，可在整个温度范围内提供稳定的校准数据。

主要特征：

-在0.93-1.70 nm的近红外（NIR）波长范围内工作

-312个有效像素的空间分辨率

-220个光谱像素时500 Hz的采集速度

-GigE Vision GenICam界面

-坚固的工业设计。防护等级IP54

-温度范围0°C-50°C，具有*的光学稳定性

-光学系统针对分析应用进行了优化

-与EVK SQALAR软件套件无缝集成

技术数据：

-光谱范围：（929±2 – 1702±2）nm

-线扫描速率：446 Hz全帧

-光谱分辨率：2.5 nm

-光谱采样：3.1 nm

-空间分辨率：312像素

-像素尺寸：30 x 30 µm

-光学耦合：C接口镜头

-击角：60 µm

-接口：GigE Vision（GV）1），Camera link（CL）²）

-触发输入：RS-485

-不含镜头的尺寸：141 x 174 x 326 mm

-重量：约7.8公斤

-电源：18 – 36 V DC

-功耗：max 24W，典型的8W

-防护等级：IP54

-工作温度：0至+50°C

-储存温度：-25至+75°C

-湿度：8至80％

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