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2011年3月15-16日，德国LemnaTec公司CEO、高通量植物3D成像技术发明人Dirk Vandenhirtz访问北京。德国LemnaTec公司中国*技术和市场合作伙伴——上海泽泉科技有限公司全程陪同了此次访问。
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| 廊坊碰头会议 | 廊坊碰头会议 |
LemnaTec本次来访的主要目的是与中国农业科学院相关领导和专家就国内*套“高通量植物表型筛选平台”的建设进一步落实细节，并赴廊坊考察了项目建设现场。
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| 廊坊考察现场 | 植物所讲座 |
3月16日，应中国科学院植物研究所的邀请，Vandenhirtz在植物所实验楼报告厅做了一场题为“High-throughput plant phenotyping technologies by LemnaTec”的报告，就LemnaTec公司的“高通量植物表型平台”技术做了详细介绍。该报告由植物所景海春研究员主持，来自植物所和相关单位的近40位科研人员参加了本次讲座。
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| 植物所讲座 | LemnaTec访问泽泉科技北京分公司 |
此外，Vandenhirtz还访问了泽泉科技北京分公司。LemnaTec与泽泉科技就中国市场的现有项目和未来发展做了深入交流。
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