越来越多发表的科学文献证明了QSense^®技术的可靠性。

该技术的核心是石英晶体在负载电压下以一个特定频率振荡。当晶体表面上的质量发生改变时，晶体的振荡共振频率也会随之变化。通过这种方法，可以在纳克级灵敏度上测定界面质量和结构变化。该方法可实时、无需标记地测量任何可形成薄膜的材料表面。

QSense^®可以测量质量变化，还可以同时测量耗散因子，从而提供薄膜的结构和粘弹性信息。它可以提供诸如吸附膜的分子厚度、结构、含水量等信息。此外还可以检测反应前、进行中和结束后的表面吸附层的变化。 

金属、聚合物、化学改性表面，只要能在芯片表面上铺展成薄膜的材料，都可以成为我们的定制芯片涂层。

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