等离子体增强原子层沉积镀膜系统 参考价：面议
等离子体增强原子层沉积镀膜系统一个基本的原子层沉积循环包括四个步骤：脉冲A，清洗A，脉冲B和清洗B。沉积循环不断重复直至获得所需的薄膜厚度，是制作纳米结构从而形...
脉冲激光分子束外延镀膜系统 参考价：面议
脉冲激光分子束外延镀膜系统凭借着优异的性能, PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内外拥有较多用户，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。
脉冲激光沉积镀膜系统 参考价：面议
脉冲激光沉积镀膜系统真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有...
反应离子刻蚀设备 参考价：面议
反应离子刻蚀设备为达到此目的，必须对真空度，气体流量，离子加速电压等进行佳调整，同时，为得到高密度的等离子体，需用磁控管施加磁场，以提高加工能力。我司提供多型号...
多通道切换器-德国气溶胶设备 参考价：面议
多通道切换器-德国气溶胶设备多取样系统MSS 08使中心测量装置（例如，UF-CPC或ENVI-CPC）能够连接多达八个不同的取样端口，并且它们之间易于切换。这...
温湿度控制器-德国气溶胶设备 参考价：面议
温湿度控制器-德国气溶胶设备DLB 2000，在实践中确立，确保全自动调节RLE。湿度与顶部稳定性。输入所需的Rel.湿度和温度的设定使用触摸屏显示器进行。必须...
软离化中和器-德国气溶胶设备 参考价：面议
软离化中和器-德国气溶胶设备XRC 049是基于X射线电离的中和器。它可以以与Kr-85-370（例如在SMPS系统中）相同的方式使用，即当测量任务需要气溶胶的...
飞行时间二次离子质谱2-材料表征 参考价：面议
飞行时间二次离子质谱2-材料表征飞行时间二次离子质谱是一种灵敏的表面分析技术，可以广泛应用于物理，化学，微电子，生物，制药，空间分析等工业和研究方面。TOF-S...
快速淬灭动力学分析仪-分子生物学 参考价：500000
快速淬灭动力学分析仪-分子生物学-酶机理反应它已成为检查酶反应途径的方法。KinTek RQF-3淬火流动仪能够有效地进行最明确的实验，保存珍贵的生物样品并提供...
烟雾发生器1-德国气溶胶设备 参考价：面议
烟雾发生器1-德国气溶胶设备此系统致力于烟雾的研究，广泛应用在各国授权的烟火研究分析实验室，专业分析高标准滤材。 某些特殊行业需要超高洁净度，对滤材要求高，例如...
尘埃粒子计数器-德国气溶胶设备 参考价：面议
尘埃粒子计数器-德国气溶胶设备PZG系列,采样量 100 LPM,可以得到灵敏度0.3 μm . （或者: 28.3 LPM = 1.0 CFM, 灵敏度可达0...
气溶胶发生器（粉尘,碳黑）-德国设备 参考价：面议
气溶胶发生器（粉尘,碳黑）-德国设备 输送和扩散是产生气溶胶的两个重要的过程。1975年，Zahradnicek全面的研究了产生气溶胶的不同方法。但是没有任何方...
气溶胶粒径谱仪-德国设备 参考价：面议
气溶胶粒径谱仪-德国设备本系统采用均匀的氙灯白光源,气溶胶粒子流经过光源,产生光散射效应,90度散射角进行检测,软件采用全程的Mie式理论计算,得到粒径大小的体...
单探头气溶胶粒径谱仪-德国设备 参考价：面议
单探头气溶胶粒径谱仪-德国设备粒子计数和粒径分布可以同时得到,互不干扰.这是高精度气溶胶粒径谱仪1的 重要的要求. 新型的T型孔传感器技术,*次解决了消除边缘效...
原子层沉积镀膜系统 参考价：面议
原子层沉积镀膜系统1.ALD （传统的热原子层沉积）；2.PEALD （等离子增强原子层沉积）；3.Powder ALD （粉末样品的原子层沉积）；
无掩膜曝光机-光刻机 参考价：面议
无掩膜曝光机-光刻机美国IMP（Intelligent Micro Patterning,LLC）公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光技术，已成为无掩...
匀胶机、旋涂仪（德国产、高性能） 参考价：面议
匀胶机、旋涂仪（德国产、高性能）SPIN150i单片匀胶机/旋涂仪具有广泛应用，包括甩干，冲洗，清洁，涂胶。台式设计，无缝全塑料材质， 有天然聚丙烯（NPP）和...
显影机-匀胶机 参考价：面议
显影机-匀胶机显影机 /湿法刻蚀机德国品质（配有防污染内衬，标配两个大小吸盘，性能优于美国同类品牌）高精度，高可靠性，耐腐蚀，来源德国，多程序控制。
半球电子能量分析器-真空组件 参考价：面议
半球电子能量分析器-真空组件半球电子能量分析器半径: 120mm反转角度: 180 deg.
皮可安培计（USB接口）-材料表征 参考价：面议
皮可安培计（USB接口）-材料表征技术参数：接口输入: BNC; 模拟输出偏压选项：无偏压/ 内置偏压 （± 90 V DC）/ 外置偏压 （BNC）
磁控溅射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空组件 参考价：面议
磁控溅射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空组件磁控溅射源/靶枪（1英寸/2英寸/3英寸）我们提供多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1“, 2“ and 3“. 以及矩...
真空腔体水气解吸附组件2 参考价：面议
真空腔体水气解吸附组件2ZCUVE代表了水蒸气解吸技术的新进展。*的设计可从2.75“扩展到8"法兰尺寸，紫外线功率因数w按比例增加
射频离子/原子源（可转换）-真空组件 参考价：面议
射频离子/原子源（可转换）-真空组件射频离子源：用于离子束沉积，离子束辅助沉积，MEMS射频原子源：用于合成氧化物，氮化物，氢原子清洗
俄歇电子能谱仪（在线表面分析）-材料表征 参考价：面议
俄歇电子能谱仪（在线表面分析）-材料表征The microCMA is a compact （2.75“ CF mount） cylindrical mirro...
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