电化学抛光是指在一定电解液中金属工件的阳极溶解，从而使其表面粗糙度下降、光亮度提高，并产生一定金属光泽的表面光整技术。抛光液通常有酸性、中性和碱性抛光液。其中酸性抛光液有：磷酸系、硫酸系、高氯酸系、磷酸-硫酸系，以及在各系基础上派生出的硫酸-铬酐、磷酸-铬酐、硫酸-磷酸-铬酐，再配以各种添加剂而成的抛光液，如钢铁件和铝件在电化学抛光时常采用H3PO4-H2SO4等构成的混合酸体系；半导体器件硅台面的抛光，要用到H3PO4-HNO3等构成的混合酸体系。电化学抛光液中如果硫酸过多，抛光速度过快，会加快金属基体腐蚀，磷酸较多，可在工件表面吸附一层黏膜，亮度下降，抛光速度变慢。在电槽维护方面，要求定期测定抛光液酸度、磷酸和硫酸含量，因此对于抛光液中混酸含量的检测具有重要实用价值。目前，对于混酸的分析主要用滴定法，其中传统的人工滴定方法需要根据指示剂颜色变化判断终点，对操作人员的技术要求较高；利用自动电位滴定仪进行常规分析时，有操作简单，分析准确度高等优点。本文主要利用电位滴定法，对混酸含量进行测定，为科研及生产提供了电化学抛光液中混酸组成比例的检测方法。