石墨烯薄膜 参考价:面议
石墨烯薄膜铜基底石墨烯膜 参考价:面议
铜基底石墨烯膜石英基底石墨烯膜 参考价:面议
石英基底石墨烯PET基底石墨烯膜 参考价:面议
PET基底石墨烯膜硅基底石墨烯膜 参考价:面议
硅基底石墨烯膜PET薄膜 参考价:面议
PET薄膜CdZnTe晶体基片 参考价:面议
CdZnTe晶体是一种闪烁矿结构的连续固溶体,改变Zn的组分,其晶格常数在0.6100 -0.6482urn之间连续可调,能与不同波段的HgCdTe晶格常数精确...CaCO3晶体基片 参考价:面议
碳酸钙(CaCo3)又称方解石是一种非单轴晶体,双折射大,光谱传播范围宽,呈一定大小的菱形状,适用于可见和近红外偏振材料。科晶公司严格挑选自然生长的碳酸钙原材料...Al2O3 晶体基片 参考价:面议
Al2O3单晶(Sapphire,又称白宝石,蓝宝石)有着很好的热特性,*的电气特性和介电特性,并且防化学腐蚀,它耐高温,导热好,硬度高,透红外,化学稳定性好。...Al2O3陶瓷基片 参考价:面议
Al2O3陶瓷基片AlN薄膜 参考价:面议
AllN Epitxial范本saphhire提出了氢化物气相外延(HVPE)的方法。氮化铝薄膜又是成本效益的方法,用来取代氮化铝单晶衬底。科晶真诚欢迎您的垂询...A-Z系列晶体列表 参考价:面议
A-Z系列晶体列表双刮刀微米级可调制膜器-宽度150mm--Se-KTQ-150D 参考价:面议
Se-KTQ-150D是一款双刮刀的可调制膜器,由于有两个刮刀所以涂覆效果会更加均匀。操作者可通过千分尺来调节刮刀与所涂覆平面之间的间隙,此工具特别适合实验室制...微米级可调制膜器-宽度100mm--Se-KTQ-100 参考价:面议
可调制膜器-这是一款*的湿法制膜工具,可通过千分尺调节制膜厚度。操作者可通过千分尺来调节刮刀与所涂覆平面之间的间隙,此工具特别适合实验室制作电池电极,陶瓷膜前期...宽度可调微米级可调制膜器-150mm--Se-KTQ-150A 参考价:面议
可调制膜器这是一款*的湿法制膜工具,可通过千分尺调节制膜厚度。操作者可通过千分尺来调节刮刀与所涂覆平面之间的间隙,此工具特别适合实验室制作电池电极,陶瓷膜前期的...2单靶直流磁控溅射仪--VTC-16-SM 参考价:面议
VTC-16-SM是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪,包含一个2英寸水冷靶头和可旋转样品台,外形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶...6工位小型连续离子层反应吸附(SILAR)吸附系统--PTL-SC-6-LD 参考价:面议
PTL-SC-6是一款自动连续离子层吸收反应(SIAR)制膜系统,与手动操作相比,避免了实验中的人为误差,因为SIAR制膜法需多次对样品进行重复提拉,所以手动很...真空立式淬火炉--OTF-1200X-4-VTQ 参考价:面议
OTF-1200X-4-VTQ是立式可开启真空管式淬火炉,石英管直径100mm,配有一个密封的液体容器用于样品淬火,温度从Z高1200度到冰水或油,可用于研究材...1500℃真空热压炉--OTF-1500X-VHP4 参考价:面议
OTF-1500X-VHP4是一款真空热压机,可对材料在真空(或气氛保护)及高温的环境下进行加压,如把粉末压成块状,或将多层晶片压合在一起(扩散实验)。此款仪器...小型磁力滑动管式炉--OTF-1200X-S-DVD 参考价:面议
OTF-1200X-S-DVD是一款靠磁铁推动坩埚移动的管式炉。其炉管直径为50mm,Z高工作温度为1200℃。本公司设计此款管式炉主要是为了在各种气氛环境下用...双温区立式高温高压炉--OTF-1200X-II-HPV 参考价:面议
OTF-1200X-II-HPV是一款双温区立式高温高压炉,炉管采用镍基合金钢管制作,具有较高的蠕变强度和抗氧化性。炉管可承受的Z高温度为1100℃(在此温度下...磁悬浮感应熔炼炉 参考价:面议
FMF-10磁悬浮感应熔炼炉是一款小型真空悬浮感应熔炼系统,特别适合与磁性材料和金属合金的探索。成套设备中包括一10KW的高频感应熔炼炉,使样品熔融(Z大熔样品...小型双炉体滑动管式炉 参考价:面议
OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的双炉体滑动管式炉,炉管为Φ50×1400mm的石英管,并配有不锈钢密封法兰,仪器Z高温度可以达到...蓝色PVC膜(单面具有粘附性) 参考价:面议
VTC-100PA真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。