石墨烯薄膜 参考价：面议
石墨烯薄膜
铜基底石墨烯膜 参考价：面议
铜基底石墨烯膜
石英基底石墨烯膜 参考价：面议
石英基底石墨烯
PET基底石墨烯膜 参考价：面议
PET基底石墨烯膜
硅基底石墨烯膜 参考价：面议
硅基底石墨烯膜
PET薄膜 参考价：面议
PET薄膜
CdZnTe晶体基片 参考价：面议
CdZnTe晶体是一种闪烁矿结构的连续固溶体，改变Zn的组分，其晶格常数在0.6100 -0.6482urn之间连续可调，能与不同波段的HgCdTe晶格常数精确...
CaCO3晶体基片 参考价：面议
碳酸钙（CaCo3）又称方解石是一种非单轴晶体，双折射大，光谱传播范围宽，呈一定大小的菱形状，适用于可见和近红外偏振材料。科晶公司严格挑选自然生长的碳酸钙原材料...
Al2O3 晶体基片 参考价：面议
Al2O3单晶（Sapphire,又称白宝石，蓝宝石）有着很好的热特性，*的电气特性和介电特性，并且防化学腐蚀，它耐高温，导热好，硬度高，透红外，化学稳定性好。...
Al2O3陶瓷基片 参考价：面议
Al2O3陶瓷基片
AlN薄膜 参考价：面议
AllN Epitxial范本saphhire提出了氢化物气相外延（HVPE）的方法。氮化铝薄膜又是成本效益的方法，用来取代氮化铝单晶衬底。科晶真诚欢迎您的垂询...
A-Z系列晶体列表 参考价：面议
A-Z系列晶体列表
双刮刀微米级可调制膜器-宽度150mm--Se-KTQ-150D 参考价：面议
Se-KTQ-150D是一款双刮刀的可调制膜器，由于有两个刮刀所以涂覆效果会更加均匀。操作者可通过千分尺来调节刮刀与所涂覆平面之间的间隙，此工具特别适合实验室制...
微米级可调制膜器-宽度100mm--Se-KTQ-100 参考价：面议
可调制膜器-这是一款*的湿法制膜工具，可通过千分尺调节制膜厚度。操作者可通过千分尺来调节刮刀与所涂覆平面之间的间隙，此工具特别适合实验室制作电池电极，陶瓷膜前期...
宽度可调微米级可调制膜器-150mm--Se-KTQ-150A 参考价：面议
可调制膜器这是一款*的湿法制膜工具，可通过千分尺调节制膜厚度。操作者可通过千分尺来调节刮刀与所涂覆平面之间的间隙，此工具特别适合实验室制作电池电极，陶瓷膜前期的...
2单靶直流磁控溅射仪--VTC-16-SM 参考价：面议
VTC-16-SM是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪，包含一个2英寸水冷靶头和可旋转样品台，外形小巧，性价比高，是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备，可选配各种金属靶...
6工位小型连续离子层反应吸附（SILAR）吸附系统--PTL-SC-6-LD 参考价：面议
PTL-SC-6是一款自动连续离子层吸收反应（SIAR）制膜系统，与手动操作相比，避免了实验中的人为误差，因为SIAR制膜法需多次对样品进行重复提拉，所以手动很...
真空立式淬火炉--OTF-1200X-4-VTQ 参考价：面议
OTF-1200X-4-VTQ是立式可开启真空管式淬火炉，石英管直径100mm，配有一个密封的液体容器用于样品淬火，温度从Z高1200度到冰水或油，可用于研究材...
1500℃真空热压炉--OTF-1500X-VHP4 参考价：面议
OTF-1500X-VHP4是一款真空热压机，可对材料在真空（或气氛保护）及高温的环境下进行加压，如把粉末压成块状，或将多层晶片压合在一起（扩散实验）。此款仪器...
小型磁力滑动管式炉--OTF-1200X-S-DVD 参考价：面议
OTF-1200X-S-DVD是一款靠磁铁推动坩埚移动的管式炉。其炉管直径为50mm,Z高工作温度为1200℃。本公司设计此款管式炉主要是为了在各种气氛环境下用...
双温区立式高温高压炉--OTF-1200X-II-HPV 参考价：面议
OTF-1200X-II-HPV是一款双温区立式高温高压炉，炉管采用镍基合金钢管制作，具有较高的蠕变强度和抗氧化性。炉管可承受的Z高温度为1100℃（在此温度下...
箱式气氛炉（5面加热）--KSL-1200X-AC-5S 参考价：面议
KSL-1200X-AC-5S是一款气氛箱式炉，炉膛内有5个加热面，使得炉膛内部的温场更加均匀。此款设备专门针对材料在惰性气氛保护的环境下进行热处理，其Z高处理...
固态锂离子电池制备设备 参考价：面议
和使用液态有机电解质的商业锂离子电池相比，固态锂离子电池由于具有高安全性，高能量密度和宽的工作温度而受到研究者高度关注。
钙钛矿太阳能电池制备设备 参考价：面议
钙钛矿太阳能电池由于具有高功率转换效率和低成本而受到研究者关注，科晶提供钙钛矿太阳能电池制备的全套方案，请点击链接选择您所需要的产品。
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