1200℃真空管式气氛炉采用先进技术研制开发的高性能高节能的新型电炉，有单管、双管、卧式、可开启式、立式、单温区、双温区、三温区等多种管式炉型。主要应用于大专院...

1400℃真空管式气氛炉以硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构，炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用高纯刚玉管、两端用不锈钢法兰密封，可选用浮子流量计控制进气流...

化学气相沉积炉（CVD系统）是借助于辉光放电等离子体使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。由于PECVD技术是通过应气体...

等离子增强化学气相沉积炉（PECVD系统）是借助于放电等离子体使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。由于PECVD技术是...

1700℃真空管式气氛炉采用先进技术研制开发的高性能高节能的新型电炉，有单管、双管、卧式、可开启式、立式、单温区、双温区、三温区等多种管式炉型。设备具有安全可靠...

1700℃管式气氛炉以硅碳棒为发热元件；双层风冷结构；高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型；高密度硅碳棒真空挤压成型；刚玉管外径为60、80mm。两个温区分别由两个独...