TRILOS超高压纳米均质机在纳米二氧化钛光催化涂层的应用

检测样品：二氧化钛

检测项目：均质分散

方案概述：纳米二氧化钛自身高表面能带来的团聚问题，以及传统分散工艺的固有局限，一直是制约光催化涂层性能的关键难题。TRILOS超高压纳米均质机凭借高效的物理分散机制，能够从根源上改善纳米二氧化钛的分散状态，优化涂层微观结构与应用性能，为高品质光催化涂层的研发与规模化生产提供了可靠的技术支撑。

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更新时间2026年04月03日

上传企业上海人和科学仪器有限公司

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关键词：纳米二氧化钛光催化涂层、超高压纳米均质机、二氧化钛浆料制备

纳米二氧化钛凭借优异的光催化活性，在自清洁涂层、抗菌涂层、空气净化涂层等领域应用广泛，是功能性环保涂层的核心材料之一。但纳米二氧化钛自身高表面能带来的团聚问题，以及传统分散工艺的固有局限，一直是制约光催化涂层性能的关键难题。TRILOS超高压纳米均质机凭借高效的物理分散机制，能够从根源上改善纳米二氧化钛的分散状态，优化涂层微观结构与应用性能，为高品质光催化涂层的研发与规模化生产提供了可靠的技术支撑。

一、纳米二氧化钛光催化涂层的分散痛点

纳米二氧化钛颗粒粒径小、比表面积大，在浆料配制过程中极易自发形成紧密的团聚体，这些团聚体无法通过常规搅拌、研磨等方式打散，不仅会大幅降低材料的有效比表面积与光催化活性位点数量，还会造成涂层成膜后厚薄不均、表面粗糙，同时团聚颗粒还会加剧浆料沉降分层，影响产品储存稳定性与批次一致性，即便搭配分散助剂，也难以实现长效稳定的单颗粒分散状态，最终导致光催化降解效率、涂层附着力与耐候性均无法达到理想水平，限制了高性能光催化涂层的实际应用效果。

二、TRILOS超高压纳米均质机的工作原理

TRILOS超高压纳米均质机依靠*压力驱动和分散物料。物料在超高压力下，经过分散单元的狭小缝隙，瞬间产生*剪切力，将大颗粒物料裁剪成微小碎片。同时，物料高速流动相互撞击，还会形成空穴效应等协同作用，在不引入额外杂质、不改变材料晶型的前提下，高效破碎纳米二氧化钛团聚体，让颗粒实现均匀细化与稳定分散，配合耐磨的核心阀件，既能满足实验室精细处理需求，也可适配工业化连续生产，实现分散工艺的稳定可控。

该设备不堵不漏，配备10寸工业触控屏实时监控压力曲线，压力可达3000bar。