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日立分析仪器(上海)有限公司

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T6 系列紫外可见分光光度计

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   北京普析通用仪器有限责任公司创立于1991年,是从事科学仪器研制、开发、生产的高科技企业。现有职工500多人,其中科技人员占职工总数的三分之一。经过十余年的艰苦奋斗和不断创新,现已成长为同行业的*企业。产品包括光谱分析仪、色谱分析仪、水质分析仪等几大系列数十种产品,从紫外可见分光光度计、原子吸收分光光度计、血液元素分析仪,在线水质分析仪、快速便携式水质分析仪、砷形态分析仪到X射线衍射仪、X射线荧光分析仪等齐全的产品群,并开发出拥有自主知识产权的系列分析测试软件。2003年普析通用被中国企业评价协会评为“中国500家成长型中小企业”。

    2004年先后被中国新闻社评价中心评为“中国*竞争力中小企业500强”;被中国中小企业合作协会、国家*工业交通统计司评为“中国制造业1000家*成长性中小企业”;被北京市*评为*北京市“守信企业”。 普析通用仪器有限公司自创业以来,始终秉怀科技服务社会的理念,坚定不移地树立和落实科学发展观,不断钻研*行业、满足社会需求的科学技术,全力开发满足各领域需求的高质产品,在业界拥有良好的声誉。2001年起,公司承担国家十五科技攻关计划重大项目“科学仪器研制与开发”中“光谱仪器的研制与开发”课题,于2004年2月顺利通过*验收,2004年公司又通过招标的方式承担了*“十五”攻关滚动计划《科学仪器的研制与开发》项目 “分析仪器产业化应用示范”课题 。体现了坚持科技创新和“对社会有*贡献”的企业理想。 全面的科学管理、*的研究技术以及严格的控制标准,保证了研制生产出高品质的产品,具有强大的市场竞争力。普析通用公司在中国分析仪器行业中*通过ISO9001质量体系认证、ISO14001环境体系认证和CE认证。紫外可见分光光度计、原子吸收分光光度计和水质连续自动监测系统多次获得BCEIA金奖。紫外可见分光光度计和原子吸收分光光度计被中国贸易促进会评为“中国进入WTO*产品”。水质连续自动监测系统获得北京市科技进步二等奖和*、外经贸部、环保总局等五部局颁发的国家重点新产品证书,普析通用公司也是参加环保总局的流域及污染源试点的*国内厂家。 普析通用公司在新的发展起点上系统地引入现代管理模式,建立与接轨的基于科学仪器行业的管理体系。实施了CRM、ERP、PDM项目,引入科学化、现代化、信息化的管理系统,在产品开发、质量控制、集成供应链、人力资源管理、财务管理等诸多方面取得长足发展。2001年普析通用成为中国仪器仪表行业协会分析仪器专业协会副会长单位,被北京市经济委员会、北京市*确定为北京市*重点联系民营企业。2002年普析通用公司荣获“科技之光”优秀企业称号,田禾总经理获得“科技之光”优秀企业家称号。2003年普析通用公司又成为国家高技术研究发展计划(863计划)“水质自动监测系统关键技术及集成设备研制”课题的承担单位之一。

   2005年田禾总经理荣获“北京市劳动*”称号,这些成绩和荣誉的取得都标志着普析通用公司在广泛吸收*科技成果的同时,已经大步迈出了独立自主开发相关领域核心技术体系的步伐,并且获得了良好的经济和社会效益。 在提供高质产品的同时,普析通用公司还竭诚为用户提供优质完备的售后服务。建立了具备化水平的系统的技术应用硬件装备实验室。在原有五个贸易大区的基础上,2004年又建立了27个省级分支机构,形成了覆盖全国的快速服务系统,以尽心尽责的服务理念和完备的技术得到了客户的*称赞。在牢固占据国内市场优势的同时,公司还大力扩展海外市场,产品销往德国、美国、韩国以及东南亚、中东等国家和地区,并在英国建立了欧洲分公司。 在新的发展征途上,普析通用人将继续以勤谨务实的态度致力于中国分析仪器事业的发展,精心打造开放式的科研开发平台、开放式的工业化设计平台、现代化的制造平台、网络化的市场服务平台,坚定不移地走科技创新之路,以优质的产品和优良的服务回报社会,不断为促进社会经济的发展、提高人民生活质量而努力!

紫外可见分光光度计;原子吸收分光光度计;X射线粉末衍射仪;气相色谱仪;砷元素形态分析仪;全反射X射线荧光分析仪;COD水质连续自动监测仪;超纯水装置

T6 系列紫外可见分光光度计   

主要特点
       超低的杂散光:国内*在经济型紫外可见分光光度计上实现万分之五的杂散光指标;
      出色的稳定性:选材精良,稳定耐用;
    灵活的扩展性:硬件方便拆解,软件灵活升级;
   人性化的整体设计:自动化程度高,维护方便;
     广泛的应用领域:满足各种分析需求,获得意外惊喜
技术参数

 
T6新世纪(紫外/可见)
T6新悦(可见)
光学系统
双光束比例监测
双光束比例监测
波长范围:
190~1100nm
325~1100nm
波长准确度
±1nm
±2nm
波长重复性
≤0.2nm
≤0.4nm
光谱带宽
2nm
2nm
杂散光
≤0.05%T
≤0.1%T
广度范围
-0.3~3Abs
-0.3~3Abs
光度准确度
±0.002A(0-0.5A)
±0.004A(0.5-1A)
±0.3%T(0-*T)
±0.002A(0-0.5A)
±0.004A(0.5-1A)
±0.3%T(0-*T)
光度重复性
≤0.001A(0-0.5A) ≤0.002A(0.5-1A)
≤0.15%T(0-*T)
≤0.001A(0-0.5A) ≤0.002A(0.5-1A)
≤0.15%T(0-*T)
基线平直度
±0.002A(200-1000nm)
±0.002A(325-1000nm)
噪声
±0.001Abs h(500nm,P-P)开机预热半小时后
±0.001Abs (500nm,P-P)开机预热半小时后
漂移
≤0.001Abs/h(500nm,0Abs ),开机预热2小时后
≤0.002Abs/h(500nm,0Abs)开机预热2小时后

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