Wafer温度实时检测装置
具体成交价以合同协议为准
- 公司名称 巨力科技有限公司
- 品牌
- 型号
- 产地 美国
- 厂商性质 经销商
- 更新时间 2017/7/21 11:14:48
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可控环境型微纳米力学测试系统,超纳米压痕仪,纳米压痕仪,动态超显微硬度计,超显微硬度计,纳米硬度计,纳米划痕仪,显微划痕仪,大载荷划痕仪,纳米摩擦仪,摩擦仪,摩擦试验机,高温摩擦试验机,真空摩擦试验机,膜厚仪,球磨仪,高精度台阶仪,三维微纳米轮廓仪,原子力显微镜，薄膜应力测量仪，全息显微镜，激光测振仪，激光干涉仪，激光测速仪，光谱型椭偏仪，扫描霍尔探针显微镜，精密d33测试仪，薄膜d33测试仪，高温介电测量系统，表面等离子体共振仪，激光拉曼显微镜PCT测试仪，碳纳米制备系统，原子层沉积系统，电子束蒸发系统热蒸发系统超高真空蒸发系统磁控溅射系统分子束外延系统 MBE有机分子束沉积 OMBD等离子增强化学气相淀积系统 PECVD电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积 ECR-PECVD低能离子减薄仪，离子减薄仪，抛光机，精密切片机，微热台
| 技术参数
zui大温度范围：室温~1300摄氏度； 温度重复性：0.2摄氏度； 温度分辨率：0.1摄氏度； 稳定性：+/-0.2摄氏度； | ||
| 主要特点
＊实时、非接触、非入侵、直接的Wafer温度精确检测； ＊Wafer表面2D温度Mapping； ＊zui真实的Wafer表面或薄膜温度检测； ＊沉积速率分析； ＊测量激光波长范围可选（例如：可见光波段、近红外波段等） ＊避免了发射率变化对测量的影响； ＊无需沉积设备Viewport特殊涂层； | ||
*的半导体温度测量装置，对Wafer（及薄膜）表面温度实时、非接触、非入侵、zui直接的检测；采用温度和半导体材料对光的吸收边沿（频带能量）相关性原理，即材料的本征特性，使得测量结果更为准确；可装载到MBE、MOCVD、溅射、蒸发系统等和热处理、退火设备上，进行实时温度检测。 | ||
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