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徕卡显微系统(上海)贸易有限公司

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奥林巴斯BX53M平场半复消色差物镜

参考价 ¥ 100000
订货量 ≥1
具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称 北京仪光科技有限公司
  • 品牌 OLYMPUS/奥林巴斯
  • 型号
  • 产地
  • 厂商性质 代理商
  • 更新时间 2025/7/28 11:26:15
  • 访问次数 38

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  北京仪光科技,专注显微形貌分析
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  愿景:让科学研究和技术创新更便捷、更高效!
  使命:为材料用户提供准确、可靠、全面的毫米级到纳米级样品制备及微观形貌分析解决方案!

 

西班牙Sensofar共聚焦白光干涉仪、泽攸台式电镜&台阶仪&原位分析、徕卡等光学显微镜、RMC超薄切片机、Linkam冷热台

产地类别 进口 应用领域 综合

奥林巴斯BX53M平场半复消色差物镜

引言

在现代材料分析、金相研究以及半导体检测等高精度科学领域中,显微镜技术的革新不断推动着研究边界的拓展。奥林巴斯BX53M反射明暗场显微镜,作为一款集先进光学设计与多功能成像系统于一体的研究级设备,凭借其技术参数和性能表现,成为了众多科研工作者和工程师的得力助手。本文将从技术细节出发,深入剖析BX53M显微镜的核心参数,并展望其在不同领域的应用前景。

一、光学架构与照明技术

1.1 反射镜体与光路优化

BX53M显微镜的反射镜体(型号:BX53MRF-S)是光学系统的基石,其设计充分考虑了反射光观察的需求。镜体内部采用了精密的光路布局,确保光线能够高效、准确地从光源传输至样品表面,并反射回观察系统。这种优化的光路设计不仅提高了成像的清晰度,还增强了系统的稳定性和耐用性。

1.2 LED光源的革新应用

BX53M显微镜配备了先进的LED反射光源(型号:BX3M-LEDR),这一选择改变了传统显微镜的照明方式。LED光源以其长寿命、低能耗和即开即用的特点,为显微镜提供了稳定且可控的照明条件。更重要的是,LED光源的色温可调性使得研究人员能够根据样品的特性调整照明光谱,从而优化成像效果。在明暗场观察中,LED光源的均匀照明和可调亮度对于形成清晰的明场背景和暗场样品像至关重要。

1.3 反射光路与多功能观察

BX53M显微镜的反射光路(型号:BX3M-RLA-S)支持明场和暗场两种观察模式,通过简单的机械切换即可实现。这种多功能性使得显微镜能够适应不同样品的观察需求,从透明的薄膜材料到不透明的金属样品,都能获得高质量的成像效果。同时,高性能的手动物镜转盘(型号:U-D5BDRE)提供了快速、准确的物镜更换能力,进一步增强了显微镜的灵活性和实用性。

二、物镜技术与成像性能

2.1 平场半复消色差物镜系列

BX53M显微镜的核心优势之一在于其平场半复消色差明暗场物镜系列。这一系列物镜包括5X、10X、20X和50X四种倍率,每种物镜都经过精心设计,以提供性能。平场设计确保了整个视场内的成像均匀性,而半复消色差技术则有效校正了色差,提高了图像的色彩还原度。

5X物镜:具有较长的工作距离(12mm)和适中的数值孔径(0.15),适用于大范围样品的初步观察。

10X物镜:提供了更高的放大倍率和更好的分辨率(NA=0.3,WD=6.5mm),适合对样品细节进行深入分析。

20X物镜:进一步提高了分辨率(NA=0.45,WD=3mm),能够清晰显示样品的微观结构。

50X物镜:作为该系列的最高倍率物镜(NA=0.8,WD=1mm),提供了放大倍率和分辨率,适用于对样品微观缺陷和精细结构的超高倍率观察。

2.2 物镜的技术特点

平场半复消色差物镜系列不仅具有高分辨率和良好的色差校正能力,还特别注重了景深控制和镀膜技术。景深控制使得在不同焦平面上都能获得清晰的图像,而先进的镀膜技术则提高了光线的透过率和抗反射能力,从而提升了成像的亮度和对比度。这些技术特点共同保证了BX53M显微镜在各种观察条件下的性能。

三、成像系统与数据处理

3.1 高分辨率数码摄像

BX53M显微镜配备了2000万像素的工业级CMOS数码摄像头(20MP USB3.0),这一摄像头以其高分辨率、低噪声和快速数据传输能力而著称。通过C型接口(U-TV1XC)与显微镜连接,摄像头能够实时捕捉样品的清晰图像,并支持视频录制功能。高分辨率的成像能力使得研究人员能够观察到样品的细微结构,为后续的分析提供了丰富的数据支持。

3.2 影像测量软件的强大功能

配套的影像测量软件(Microsoftware)是BX53M显微镜的另一大亮点。该软件不仅提供了基本的图像处理功能,如长度、周长、面积等测量,还具备高级的图像分析功能,如景深合成和图像拼接。这些功能使得研究人员能够对样品进行精确的定量分析,提高了研究效率和准确性。同时,软件的用户界面友好,操作简便,降低了使用门槛。

四、应用领域与前景展望

奥林巴斯BX53M反射明暗场显微镜凭借其技术参数和灵活的配置选项,在材料科学、金属学、半导体工业等多个领域展现出了广泛的应用前景。在材料科学领域,BX53M显微镜可用于研究材料的微观结构和性能关系;在金属学领域,它可用于金相分析和失效分析;在半导体工业领域,BX53M显微镜则可用于芯片检测和封装质量评估。

随着科学技术的不断进步和应用需求的日益多样化,BX53M显微镜将继续发挥其重要作用。未来,随着光学技术、成像技术和数据处理技术的进一步发展,BX53M显微镜有望在更高分辨率、更广观察范围、更智能的数据分析等方面实现突破,为科研和工业应用提供更加全面和高效的解决方案。

结论

奥林巴斯BX53M反射明暗场显微镜以其先进的光学架构、物镜技术、高分辨率的成像系统和强大的数据处理能力,成为了现代科学研究和工业应用中的重要工具。其技术参数和灵活的配置选项使得该显微镜能够适应不同领域的观察需求,为研究人员提供了清晰、准确的成像效果和丰富的数据分析功能。未来,BX53M显微镜将继续显微镜技术的发展潮流,为科学研究和工业应用贡献更多力量。

奥林巴斯BX53M平场半复消色差物镜




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