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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>薄膜生长设备>物理气相沉积设备>NEXDEP Angstrom物理沉积系统

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NEXDEP Angstrom物理沉积系统

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上海麦科威半导体技术有限公司(Shanghai Makeway Semiconductor LTD)是一家专业的微纳材料、半导体和微电子材料及器件研发仪器及设备的供应商,所销售的仪器设备广泛用于高校、研究所、以及半导体和微电子领域的高科技企业。目前总部在上海,香港、南通、深圳、北京分别设立分公司和办事处,快速响应客户需求。同时上海麦科威在快速扩展海外市场,并设立新加坡分公司,辐射东南亚市场。

      上海麦科威半导体技术有限公司主要销售产品包括:  - 霍尔效应测试仪;  - 快速退火炉;  - 回流焊炉,共晶炉,钎焊炉,真空烧结炉;  - 电子束蒸发镀膜机,热蒸发镀膜机;  - 探针台,低温探针台,微探针台;  - 金刚石划片机; - 球焊机,锲焊机;  - 磁控溅射镀膜机;  - 原子层沉积系统,等离子增强原子层沉积设备;  - 电化学C-V剖面浓度分析仪(ECV Profiler); - 扫描开尔文探针系统; - 光学膜厚仪; -贴片机-PECVD\CVD;-脉冲激光沉积系统-PLD-纳米压印;-等离子清洗机、去胶机;-反应离子刻蚀RIE; - 光刻机、无掩膜光刻机; - 匀胶机; - 热板,烤胶板; -少子寿命、太阳能模拟器;-NMR-瞬态能谱仪-外延沉积-等离子清洗机-离子注入-划片机、裂片机光刻机(针尖/电子束光刻机EBL,紫外光刻机,激光直写光刻机),镀膜机(磁控溅射机,电子束蒸发机,化学沉积机,微波等离子沉积机,原子层沉积机  等等…

企业客户:华为技术有限公司, 深圳市鹏芯微集成电路制造, 深圳清力技术, 安徽格恩半导体, 苏州稀晶半导体科技, 矽品半导体, 厦门海辰新能源科科, 中核同创(成都)科技, 洛玛瑞芯片技术(常州),伟创力科技, 奥普科星河北科技,广东五星太阳能,广东万和集团,西安西测股份, 普源精电科技, 普源精电科技股份, 上海蔚来汽车, 北京华脉泰科, 广医东金湾高景太阳能科技, 深圳汇佳成电子, 深圳市化讯半导体材料, 珠海珍迎机电, 合肥鼎材科技, 山东金晶节能玻璃, 江苏云意电气股份, 广东风华技股份, 浙江中能合控股集团,固安维信诺,淮安天合光能,浙江老鹰半导体, 四川信通电子科技等。


科研院所/高等院校: 北京航空航天大学, 汕头大学, 南方医科大学, 清华大学, 北京大学, 复旦大学, 西北工业大学, 南京医科大学, 香港中文大学, 香港城市大学, 苏州大学, 深圳职业技术学院, 南京大学合肥国家试验室, 上海交通大学医学院, 华南理工大学,华东师范大学,江南大学,重庆26所, 深圳大学, 南方科技大学, 深圳技术大学, 理化技术研究所, 中国工程物理研究院激光聚变研究中心, 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院, 桂林电子科技大学, 上海硅酸盐研究所, 中国航天五院,中科合肥智慧农业协同创新研究院等。

 

 

 

 

 

 

 

 

半导体设备,快速退火炉,原子层沉积,键合机,光刻机

产品概述:

      物理气相沉积(PVD)平台是一种在真空环境中,通过物理方法将固体或液体材料源表面气化成气态原子、分子或离子,并沉积在基体表面形成具有特定功能的薄膜的设备。PVD平台通常包括真空系统、加热系统、气体控制系统、沉积室、基体支撑及驱动系统等部分。AE物理气相沉积平台可能集成了这些关键技术组件,以提供高效、精确的薄膜沉积解决方案。

设备用途:

  AE物理气相沉积平台的主要用途包括:

  1. 表面改性:通过沉积耐磨、耐腐蚀、导电、绝缘、润滑等特性的薄膜,改善基体材料的表面性能。

  2. 功能薄膜制备:制备具有光导、压电、磁性、超导等功能的薄膜,应用于电子、光学、传感器等领域。

  3. 装饰和保护:在高档手表、珠宝、建筑材料等表面沉积金属或合金薄膜,提供美观和防腐蚀保护。

  4. 微纳加工:在微电子、半导体、纳米技术等领域,制备高精度、高质量的薄膜结构。

设备特点

  高精度和均匀性:通过精确控制沉积参数,如温度、压力、气体流量等,实现薄膜的高精度和均匀性沉积。

  多功能性:支持多种PVD技术,如真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜等,满足不同应用需求。

  环保和节能:在真空环境中进行沉积,减少环境污染;采用高效能源利用技术,降低能耗。

  自动化和智能化:集成计算机控制系统,实现自动化操作和智能化监控,提高生产效率和产品质量。

 

Angstrom Engineering  Amod PVD 平台是一款物理气相沉积系统,以下是其一些技术特点和应用:
技术参数和特点:

不同型号的 Nexdep PVD 设备可能在具体技术指标上存在差异,如果你想了解更详细的信息,可以参考相关产品手册或直接联系 Angstrom Engineering 公司。此外,天津大学大型仪器管理平台和一些采购公告中也有 Nexdep PVD 设备的具体参数信息,例如:

1,腔室尺寸为 400mm(长)×400mm(宽)×500mm(高),带有可拆卸的不锈钢内衬;前门为移门,后门为铰链式结构,采用 O 型圈密封;腔室门集成观察窗并带有防沉积装置。

2,真空系统方面,前级泵采用油泵,抽速不低于 9cfm;主泵采用分子泵,抽速不低于 685L/s;配备 Inficon MPG400 真空规,测量范围从3.75e-9torr 到大气;在洁净、干燥环境下,极限抽真空优于 5e-7torr

3,蒸镀系统配备 1 套热阻金属蒸发源和 1 个蒸发源电源控制器,热阻蒸发源电源功率可达 2.5kW,采用可控硅电源控制器。

4,膜厚检测系统配备 1 个膜厚检测探头,带有水冷功能以提高检测准确性,探头安装在刚性支架上防止碰撞影响精度。

5,样品台可装载直径为 150mm 的样品,兼容小尺寸样片,带旋转功能,转速 10-30rpm 可调;系统配备自动控制模式的蒸发源挡板和开合式样品台挡板。





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