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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>有掩模光刻机> Model 6000 生产型掩膜曝光机

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Model 6000 生产型掩膜曝光机

具体成交价以合同协议为准

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联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


 

FIRSTNANO成立于2012年,一家由三位材料学博士共同创办的德国公司。基于 Science is international”的想法,“全球协同实验室”成为三位博士追逐的梦想。

公司愿景是从科学家到科学家,科学开创美好未来。

FIRSTNANO深耕于半导体技术、材料科学、生命科学等科研领域,始终秉承“前沿、专业、科学”的宗旨,将前沿技术引进到协同实验室。我们的产品覆盖了微纳加工制程;材料科学的检测、分析;生命科学成像,脑科学与行为认知等相关领域。作为全球科技前沿的仪器供应商,FIRSTNANO具有全球技术视野、优质供应体系、以及严格的质量管控系统,能为客户提供前沿的技术解决方案。

公司服务的客户领域广泛,其中包括消费电子、航空、航天、医药技术、半导体行业、光电子行业、高校和研究机构。

在成长的过程中,我们脚踏实地、奋勇向前。自2015年香港(中华区)公司成立以来,我们一相继在香港、深圳、上海和武汉设立了分支机构。

我们真诚邀请业内英才加入FIRSTNANO TEAM,一起为梦想扬帆起航!

 

 

 

 

 

半导体仪器和电子产品耗材耗材

Model 6000 生产型掩膜曝光机

Model 6000 生产型掩膜曝光机

在半导体行业拥有超过 40 年的制造经验,OAI 凭借全新精英级生产型光刻设备,从容应对瞬息万变的市场所带来的日益严峻的挑战。6000 系列基于经过验证的 OAI 模块化平台打造而成,是一套全自动盒对盒系统,具备亚微米分辨率,其性能在同价位设备中很高。


该对准器配备优良的光束光学系统,均匀性优于 ±3%,且在首掩模模式下的吞吐量可达 200 片晶圆 / 小时,从而显著提高良率。


6000 型设备能够处理多种类型的晶圆,包括厚基板、键合基板(厚度可达 7000 微米)、翘曲晶圆(翘曲度可达 7 毫米 - 10 毫米)、薄基板(厚度低至 100 微米)以及厚光刻胶。


凭借工艺重复性,6000 型设备成为各类生产环境的理想解决方案。可选择正面对准,或选装背面对准 —— 背面对准采用康耐视(Cognex™)M 图案识别软件与 OAI 的图案辅助软件,这款软件能进一步提升整体吞吐量。在整个光刻流程中,6000 型设备可与集群工具实现无缝集成。OAI 全新的生产型掩模对准器堪称一站式解决方案。


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高度优化的产能
首掩模模式下可达 200 片 / 小时(WPH)


优良的光束光学系统
均匀性优于 ±3%


丰富的晶圆处理能力
包括厚基板、键合基板及翘曲基板


楔效应调平

工艺重复性

亚微米分辨率

远程诊断功能


Model 6000 生产型掩膜曝光机

Model 6000 生产型掩膜曝光机规格参数


曝光系统

Model 6000 生产型掩膜曝光机

优良光束光学系统

Model 6000 生产型掩膜曝光机

对准系统

Model 6000 生产型掩膜曝光机


晶圆处理

Model 6000 生产型掩膜曝光机


可选配置

红外自动对准

晶圆盒映射

紫外 LED 曝光光源

温控晶圆卡盘

集成掩模管理控制

集成光刻集群用于完整光刻流程

带 SMIF 或 FOUP 接口模块的工艺环境控制

非接触式调平

边缘夹持

激光间隙测量





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