优异的生物相容性 光刻胶 SU-8

优异的生物相容性 光刻胶 SU-8是一种具有高分辨率、高精度和高附着性的光刻胶，可用于制备复杂、精细的微型结构，能够在厚度从低于1μm到超过300μm的范围内旋涂，或用于超过1mm厚的干膜的层压，同时SU-8拥有良好的光学特性（透明度），较大高宽比，优异的生物相容性，出色的热稳定性和化学稳定性。

SU-8光刻胶在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，因此可以得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形。

SU-8光刻胶具有高机械强度，可用于平坦化的化学机械抛光SU-8光刻胶可以形成台阶等结构复杂的图形，并可以直接作为绝缘体在电镀时使用。

SU-8光刻胶还具有优秀的成像能力，可以制作出大高宽比的结构（紫外光源曝光下高宽比可达10:1，X射线光源下高宽比可达100:1）。同时其透光性优异，可以在毫米级厚度的膜层上制作出垂直度好的侧壁。

SU-8可以用来做什么？

SU-8光刻胶在MEMS（微机电系统）领域有着广泛应用，例如光波导、微透镜、光学阵列等光学器件，以及微流控芯片、微电机阵列等微机械系统，制作电镀模具，传感器，微纳结构等。

在微流控芯片中，SU-8光刻胶被用于制备微流道、反应室、阀门、泵等微型结构，并且可用于芯片的封装。

它还可以作为微流控芯片的封装材料，用于制备上下盖板和连接件、密封件等。

SU-8光刻胶广泛应用于MEMS领域，如光波导、微透镜、光学阵列等光学器件，还可用于制作细胞培养及筛选芯片、分子诊断芯片等生物芯片的关键结构。

优异的生物相容性 光刻胶 SU-8光刻工艺

传统获得SU-8光刻结构的方式是有掩模光刻，但是有掩模光刻机光刻SU8时，光刻机需要掩模版与光刻胶上表面紧密接触以提高光刻精度，因此随着时间的推移，涂有SU-8的晶圆片不可避免地会粘在掩模版上。这些胶会影响接触式光刻机的分辨率；它还可能导致掩模版上的铬特征结构受到不可逆转的损伤。

然而托托科技的无掩模光刻技术则不需要制备掩模版，直接通过计算机控制空间光调制器或激光直写等设备将芯片图案直接投射到SU-8光刻胶上进行加工。避免了光刻胶粘版问题，分辨率也可以保证甚至是更高。