官方微信|手机版

产品展厅

产品求购企业资讯会展

发布询价单
马尔文帕纳科

化工仪器网>产品展厅>分析仪器>X射线仪器>X光电子能谱仪(XPS/ESCA)>makeway 近常压X射线光电子能谱仪

分享
举报 评价

makeway 近常压X射线光电子能谱仪

具体成交价以合同协议为准

联系方式:王先生查看联系方式

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


上海麦科威半导体技术有限公司(Shanghai Makeway Semiconductor LTD)是一家专业的微纳材料、半导体和微电子材料及器件研发仪器及设备的供应商,所销售的仪器设备广泛用于高校、研究所、以及半导体和微电子领域的高科技企业。目前总部在上海,香港、南通、深圳、北京分别设立分公司和办事处,快速响应客户需求。同时上海麦科威在快速扩展海外市场,并设立新加坡分公司,辐射东南亚市场。

      上海麦科威半导体技术有限公司主要销售产品包括:  - 霍尔效应测试仪;  - 快速退火炉;  - 回流焊炉,共晶炉,钎焊炉,真空烧结炉;  - 电子束蒸发镀膜机,热蒸发镀膜机;  - 探针台,低温探针台,微探针台;  - 金刚石划片机; - 球焊机,锲焊机;  - 磁控溅射镀膜机;  - 原子层沉积系统,等离子增强原子层沉积设备;  - 电化学C-V剖面浓度分析仪(ECV Profiler); - 扫描开尔文探针系统; - 光学膜厚仪; -贴片机-PECVD\CVD;-脉冲激光沉积系统-PLD-纳米压印;-等离子清洗机、去胶机;-反应离子刻蚀RIE; - 光刻机、无掩膜光刻机; - 匀胶机; - 热板,烤胶板; -少子寿命、太阳能模拟器;-NMR-瞬态能谱仪-外延沉积-等离子清洗机-离子注入-划片机、裂片机光刻机(针尖/电子束光刻机EBL,紫外光刻机,激光直写光刻机),镀膜机(磁控溅射机,电子束蒸发机,化学沉积机,微波等离子沉积机,原子层沉积机  等等…

企业客户:华为技术有限公司, 深圳市鹏芯微集成电路制造, 深圳清力技术, 安徽格恩半导体, 苏州稀晶半导体科技, 矽品半导体, 厦门海辰新能源科科, 中核同创(成都)科技, 洛玛瑞芯片技术(常州),伟创力科技, 奥普科星河北科技,广东五星太阳能,广东万和集团,西安西测股份, 普源精电科技, 普源精电科技股份, 上海蔚来汽车, 北京华脉泰科, 广医东金湾高景太阳能科技, 深圳汇佳成电子, 深圳市化讯半导体材料, 珠海珍迎机电, 合肥鼎材科技, 山东金晶节能玻璃, 江苏云意电气股份, 广东风华技股份, 浙江中能合控股集团,固安维信诺,淮安天合光能,浙江老鹰半导体, 四川信通电子科技等。


科研院所/高等院校: 北京航空航天大学, 汕头大学, 南方医科大学, 清华大学, 北京大学, 复旦大学, 西北工业大学, 南京医科大学, 香港中文大学, 香港城市大学, 苏州大学, 深圳职业技术学院, 南京大学合肥国家试验室, 上海交通大学医学院, 华南理工大学,华东师范大学,江南大学,重庆26所, 深圳大学, 南方科技大学, 深圳技术大学, 理化技术研究所, 中国工程物理研究院激光聚变研究中心, 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院, 桂林电子科技大学, 上海硅酸盐研究所, 中国航天五院,中科合肥智慧农业协同创新研究院等。

 

 

 

 

 

 

 

 

半导体设备,快速退火炉,原子层沉积,键合机,光刻机

价格区间 面议 仪器种类 进口
应用领域 综合

近常压X射线光电子能谱仪技术参数:

1.近常压XPS真空系统,包含分析腔和快速进样腔

1.1分析腔采用μ金属腔体或不锈钢腔体加消磁线圈

1.2分析腔配备分子泵以及前级泵,真空≤5×10-9mbar

1.3快速进样腔采用不锈钢腔体

1.4快速进样腔配备分子泵和前级泵,真空≤5×10-8mbar

2.电子能量分析器

2.1半球型,平均半径150mm

2.2四级差分抽气系统,一级和二级差分抽气之间配有阀门,可以实现真空腔体进气时保证分析器的真空度

2.3工作压力最大可达25mbar

2.4分析器接收角:≥44o

2.5工作距离:300-500μm

2.6八个入口狭缝,三个出口狭缝

2.7能量分辨率:≤10meV

2.8探测能量范围可达3.5keV

2.9Ag 3d峰计数率(在Al靶X光源束斑≤250μm,20W条件下):≥70kcps在UHV条件;≥7kcps在10mbar N2条件;≥0.5kcps在25mbar N2条件

2.10配有一维探测器(ADCMOS)

3.单色化阳极靶微聚焦X射线光源

3.1类型:单色化Al/Ag/Cr三阳极靶

3.2工作范围:10-10 –25mbar

3.3Al靶光斑尺寸:≤200μm

3.4Al靶光通量≥1.0x1010photons/s;Ag靶光通量≥1.0x109photons/s,Cr靶光通量≥1.0x1010photos/s

3.5配有差抽系统

3.6配套水冷机组,最大水压可达9bar

4.近常压X射线光电子能谱仪进气气路

4.1配有三路进气管路系统,配备质量流量计,用于气体通入

4.2带有自动压力控制,压力范围:1-30mbar

5.分析腔四轴全自动样品架

5.1四轴样品架移动范围:

X=±12.5mm

Y=±12.5mm

Z方向范围随系统配置

P=±180°polar(极角)

5.2四轴全自动化马达

5.3配备150W红外激光加热器,在25mbar N2条件下,样品温度最高可达1000℃

5.5配有液氮冷却,样品温度可到150K

6. 紫外光源

6.1束流密度>2x1016 photons/(sec x sterad)

6.2能量分辨率:FWHM<2meV

6.3可用气体:He、Ne、Ar等

6.4样品上束斑尺寸:<500μm

6.5可在近常压环境下进行UPS测试




化工仪器网

采购商登录
记住账号    找回密码
没有账号?免费注册

提示

×

*您想获取产品的资料:

以上可多选,勾选其他,可自行输入要求

个人信息:

温馨提示

该企业已关闭在线交流功能