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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>无掩模光刻机/直写光刻机>MKW-200 直写光刻机/无掩膜光刻机

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MKW-200 直写光刻机/无掩膜光刻机

具体成交价以合同协议为准

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联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


上海麦科威半导体技术有限公司(Shanghai Makeway Semiconductor LTD)是一家专业的微纳材料、半导体和微电子材料及器件研发仪器及设备的供应商,所销售的仪器设备广泛用于高校、研究所、以及半导体和微电子领域的高科技企业。目前总部在上海,香港、南通、深圳、北京分别设立分公司和办事处,快速响应客户需求。同时上海麦科威在快速扩展海外市场,并设立新加坡分公司,辐射东南亚市场。

      上海麦科威半导体技术有限公司主要销售产品包括:  - 霍尔效应测试仪;  - 快速退火炉;  - 回流焊炉,共晶炉,钎焊炉,真空烧结炉;  - 电子束蒸发镀膜机,热蒸发镀膜机;  - 探针台,低温探针台,微探针台;  - 金刚石划片机; - 球焊机,锲焊机;  - 磁控溅射镀膜机;  - 原子层沉积系统,等离子增强原子层沉积设备;  - 电化学C-V剖面浓度分析仪(ECV Profiler); - 扫描开尔文探针系统; - 光学膜厚仪; -贴片机-PECVD\CVD;-脉冲激光沉积系统-PLD-纳米压印;-等离子清洗机、去胶机;-反应离子刻蚀RIE; - 光刻机、无掩膜光刻机; - 匀胶机; - 热板,烤胶板; -少子寿命、太阳能模拟器;-NMR-瞬态能谱仪-外延沉积-等离子清洗机-离子注入-划片机、裂片机光刻机(针尖/电子束光刻机EBL,紫外光刻机,激光直写光刻机),镀膜机(磁控溅射机,电子束蒸发机,化学沉积机,微波等离子沉积机,原子层沉积机  等等…

企业客户:华为技术有限公司, 深圳市鹏芯微集成电路制造, 深圳清力技术, 安徽格恩半导体, 苏州稀晶半导体科技, 矽品半导体, 厦门海辰新能源科科, 中核同创(成都)科技, 洛玛瑞芯片技术(常州),伟创力科技, 奥普科星河北科技,广东五星太阳能,广东万和集团,西安西测股份, 普源精电科技, 普源精电科技股份, 上海蔚来汽车, 北京华脉泰科, 广医东金湾高景太阳能科技, 深圳汇佳成电子, 深圳市化讯半导体材料, 珠海珍迎机电, 合肥鼎材科技, 山东金晶节能玻璃, 江苏云意电气股份, 广东风华技股份, 浙江中能合控股集团,固安维信诺,淮安天合光能,浙江老鹰半导体, 四川信通电子科技等。


科研院所/高等院校: 北京航空航天大学, 汕头大学, 南方医科大学, 清华大学, 北京大学, 复旦大学, 西北工业大学, 南京医科大学, 香港中文大学, 香港城市大学, 苏州大学, 深圳职业技术学院, 南京大学合肥国家试验室, 上海交通大学医学院, 华南理工大学,华东师范大学,江南大学,重庆26所, 深圳大学, 南方科技大学, 深圳技术大学, 理化技术研究所, 中国工程物理研究院激光聚变研究中心, 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院, 桂林电子科技大学, 上海硅酸盐研究所, 中国航天五院,中科合肥智慧农业协同创新研究院等。

 

 

 

 

 

 

 

 

半导体设备,快速退火炉,原子层沉积,键合机,光刻机

  • 详细介绍

  • 上海麦科威MKW-200是一个高价值的激光直写光刻机,面向大学和研究机构寻求扩大他们的能力。

    它用亚微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蚀剂涂层表面大面积书写。你可以写任何东西,从光掩模到基础科学或应用科学的研究原型,集成相机可以用来调整现有的功能写。

    我们对其进行了优化,以便于使用和简单维护,利用现成的部件,而不牺牲书写质量或功能。

    直接激光书写光刻

    直接激光光刻技术通过消除光掩模生产对外部供应商的依赖,大大降低了微流体、微电子、微机械和材料科学研究等领域的成本和执行时间。


    UV-Writer随其控制软件在PC上提供。它允许您从GDSII文件的单元格或直接从PNG图像导入要写入的设计。

    一切都是通过一个用户友好的图形界面来完成的,它允许您在执行之前预览要编写的设计。

    除了对每个设计应用旋转、反射、反转或比例调整等变换外,还可以在单个过程中组合多个设计。

    在确定了设计方案后,采用了所包含的工作台控制模块和共焦显微镜。

    使用它们,您可以设置基片上工艺的原点位置和感光表面上的焦平面。

    接下来执行该过程并将设计写在表面上。



    技术指标:

    XY工作台

    典型写入速度:100-120 mm/s

    面积:100x92 mm^2

    最小面积:没有最小面积

    单向定位台阶:X=0.16µm,Y=1.00µm

    慢速X轴上的机械噪声:<1µm

    快速Y轴上的机械噪声:<1µm

    多层对准精度:5-10µm(可选旋转台,便于对准)

    实际最小特征尺寸:6-15µm,取决于特征(示例见下图)


    软件

    支持的格式:PNG、GDSII

    在软件转换:,旋转、反射、反转、重缩放、添加边框

    -可以在一个进程中编写来自不同文件的多个设计

    -通过3点线性或4点双线性聚焦测量进行倾斜/翘曲基板补偿

    -全床曲率补偿的网格型标定


    光学

    -激光波长:405nm(可选375nm)

    -激光聚焦、对准和检测用共焦显微镜

    -二次独立黄色照明

    -激光光斑尺寸可以使用工业标准显微镜物镜改变


    精度:

    -精细:0.8µm

    -介质:2µm

    -粗粒:5µm


    大面积包含目标的有效书写速度(单向书写):

    -精细:1.7 mm^2/min

    -中等:4.25 mm^2/min

    -粗糙度:10.6 mm^2/min

    在双向写入模式下速度加倍。






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