ABSEM 200 氩离子束场发射扫描电子显微镜，作为一款创新的多功能样品制备和分析系统，突破性地将宽束氩离子枪集成于扫描电镜的样品室内，成功实现了离子束原位抛光以及高分辨电子束成像分析的无缝衔接，无需繁琐的样品转移流程极大地提升了分析效率。 ABSEM 200 所搭载的宽离子束技术，具备强大的处理能力，能够轻松应对毫米级的大尺寸样品，极大地拓宽了其应用范围。掠射角的设计可以有效降低在处理过程中对样品造成的损伤，确保了样品的完整性和原始状态。纳米级层切模块能够精准控制去层厚度，且拥有杂屑捕获装置确保系统稳定运行，有效避免了杂屑对实验的干扰和潜在风险。 ABSEM 200 氩离子束场发射扫描电子显微镜特别适用于环境敏感或结构复杂的样品，为用户提供了一种高效精确的样品表征解决方案。

产品优势

高分辨成像分析：1.0nm@15KV，1.5nm@1KV

大面积样品处理：最大可达10mm

高精度层切控制：纳米级压电台，最小步进8nm

高效率原位抛光：集成式设计，无需真空转移

优秀的电子光学设计

稳定的离子加工系统

高精度挡板层切模块

优秀的杂屑捕获装置

产品参数

离子光学系统

离子束能量范围：0.5KV—5KV

离子束束流：10—500μA

束斑直径：0.3—10mm

气体类型：氩气

常用工作气压：5e—5mbar

入射角度：3—9°

离子束加工样品尺寸和要求

样品尺寸：≤12mm×12mm×5mm

样品重量：≤300g

层切范围：≤200μm

层切步进：≥8nm

电子光学系统

电子枪类型：高亮度肖特基场发射电子枪

加速电压：0.02—30KV

电子束流：1pA—20nA（100nA选配）

放大倍率：1—2,000,000X

分辨率：1.0nm@15KV（SE），1.5nm21KV（SE）

探测器

标配：样品室内二次电子探测器；镜筒内二次电子探测器；

选配：标准背散射电子探测器；低压背散射电子探测器

样品室

仓库：内径340mm，高度260mm；全自动杂屑捕获装置；多附件接口，可加装EBSD、EDS，等离子清洗机等多种附件

样品台：X、Y=125mm，Z=50mm，R=360°连续，T=-5~70℃

影像系统：光学导航、样品室内监控、氩离子束监控

软件及图像处理

语言：中文/英文，可定制其他语言

操作系统：Windows

图像分辨率：512*512-16K*16K

自动功能：自动聚焦、自动亮度对比度等

参数推荐：预设常用材料抛光参数

其他功能：分屏显示、图像注释和测量、图像混合、大面积图像采集和拼接等