TTT-07-UV Litho-S 托托科技 无掩模光刻机

托托科技 无掩模光刻机，以其革命性的技术革新，为微电子、集成电路等制造领域带来了灵活性和高效率。无论是在科学研究、定制化生产、快速原型制造，还是在电子器件、生物医药、光学元件、微机械等众多领域，我们的无掩模光刻机都能提供解决方案。

激光直写光刻技术与DMD无掩模光刻技术

激光直写技术通过激光束直接在材料表面进行高精度加工，而DMD无掩模技术通过数字微镜阵列投影光束进行图案化加工，适用于大面积光刻。

DMD无掩模光刻技术路线介绍

基本原理：DMD技术利用数字微镜装置（Digital Micromirror Device）来控制微镜的角度，从而通过投影系统在材料表面快速形成图像或光刻图案 。这些微镜根据电信号的控制会精确调节反射角度，将激光或光源投射到特定位置。

系统组成：基于DMD的无掩模光刻系统通常由光源模组、匀光模组、DMD模组、投影模组、运动台模组和软件等几大部分构成，这些模组高效、精准的协同工作，实现了高分辨率图案的快速无掩模光刻。

工作流程：上位机的发送图形数据到DMD模组，DMD显示对应的图形，经由DMD反射的光携带着图形信息，并经过一系列光学元件后照射到基片上，实现了图形的转移。高精度运动平台的协同工作，确保不同曝光区域的精准拼接, 最终实现大型、复杂图案的动态曝光。

核心功能

灵活设计无需掩模版

与传统的有掩模光刻相比，无掩模光刻机更加灵活便捷，省去了制版的时间和金钱成本，帮助您快速验证想法

加工精度可达400 nm

加工精度1 μm可以满足大多数加工需求，针对精度要求更高的用户，我们提供加工精度可达400 nm的产品供您选择

速度高达1200 mm²/min

对于大尺寸样品的加工来说，效率变得尤为重要，我们将为您供高速高精度的设备来满足您的需求

加工幅面可达2 m²

如果您是有超大幅面加工需求的用户，我们可提供加工幅面达2 m² 的产品来满足您的需求

灰度光刻可达4096阶

4096阶的灰度能力，能够精准地在光刻材料上构建出具有高度复杂且细腻层次变化的微观结构或图案，为微纳制造领域带来工艺精度与丰富的设计可能性

托托科技 无掩模光刻机特色功能：

直接绘图：直接绘图为您提供灵活便捷的手段，以此来快速验证您的想法

精准套刻：由绿光作为指引光为您提供光刻前的对准预览，以此来实现精准套刻

阵列光刻：阵列光刻为您提供快速确认工艺参数的手段，以此来帮您节约时间

主动对焦：主动对焦为您提供光刻前的实时对准，以此来确保每次光刻聚焦清晰