真空闪蒸及退火设备 VCD & Annealing
- 公司名称 普迈精医科技(北京)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号
- 产地
- 厂商性质 代理商
- 更新时间 2025/2/27 16:09:46
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产地类别 | 国产 | 应用领域 | 环保,能源,电子/电池,综合 |
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钙钛矿单结太阳能电池设备和整线解决方案
提供从设备配置、技术服务、到量产工艺优化,以及质量控制的全过程解决方案,满足包含从300mmx300mm到1200mmx2400mm尺寸的全产品线,满足CE/UL标准,承诺PCE 20%@300mmx300mm电池组件、PCE 18%@0.6mx1.2m电池组件。
钙钛矿/晶硅叠层太阳能电池设备和整线解决方案
在单结钙钛矿太阳能电池设备配置的基础上,提供一步涂布法或干湿两步法的钙钛矿/晶硅叠层电池制备工艺,包含从182mmx182mm到210mmx210mm尺寸的全产品线,满足CE/UL标准,承诺高电池效率。
产品介绍:
狭缝涂布设备 Slot-Die
技术特点:
多段式供液,涂布膜层均匀性高
通过3个激光传感器,实现快速自动对刀、防撞刀
搭配高精度注液泵
可采用钙钛矿溶剂验收

技术参数:

真空闪蒸及退火设备 VCD & Annealing
技术特点:
集成闪蒸和退火工艺,成膜环境和成膜过程高度可控
大面积样品退火受热均匀,保证相变一致性
快速去除湿膜中的残余溶剂,均匀的过饱和
变频调速罗茨泵实现抽气速率可控

技术参数:

激光划刻设备 Laser Scriber
技术特点:
P1、P2、P3飞秒、皮秒红外激光可选
高度定制化,膜面/玻璃面划刻可选,平顶光斑可选
精度高,具备逐线功能,线间距小
工艺成熟,边缘光洁,无火山环及毛边


蒸镀设备 Evaporation System
技术特点:
多源共蒸,实现大面积镀膜
热场和温控精确

技术参数:

原子层沉积设备 Atomic Layer Deposition
技术特点:
精确控制薄膜厚度
薄膜均匀性高
温控精度高
全自主工艺腔室设计,空间型和时间型可选,多片和单片可选

技术参数:

磁控溅射设备 Sputtering System
技术特点:
工艺稳定性高
自研氧化镍反应溅射控制器
ITO/NiOx靶采用圆柱靶,靶材利用率高
靶-基距可调,低损伤TCO导电膜镀膜

技术参数:
