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真空闪蒸及退火设备 VCD & Annealing

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普迈精医科技(北京)有限公司(PRECISION MEDICINE TECHNOLOGY(Beijing)Co.LTDEVOQUA德国懿华在中国的合作伙伴,为实验室客户提供专业的科研检测设备解决方案。

我们了解科学仪器在全球的应用,汇集于专业的解决方案,传递给国内顶级科研及检测人员,辅助我们的客户取得事业进步和成功。

我们提供的专业解决方案有:

实验室纯水及超纯水供给解决方案:可根据客户需求,提供1.2-14/分钟的超纯水,10-1000/小时的纯水设备及设计方案,并提供全部相关耗材,EDI去离子模块。

生物样本库解决方案:样本库前期设计、各功能区规划到样本前后处理设备、样本冻存耗材、样本冻存设备,再到样本自动化工作站、自动化样本库、样本库管理软件,为客户提供一站式样本存储解决方案。

细胞培养解决方案:该方案涵盖组织提取,研磨消解,培养分选,生化分析,分离富集,冻存转运各环节的仪器设备及耗材,并提供相关检测服务及科研服务。

细胞囊泡及外泌体EXOSOME解决方案:该方案涵盖细胞囊泡及外泌体EXOSOME的分离提取,鉴定鉴别,测序分析及后续应用。我们为客户提供相关环节专业仪器,试剂盒,耗材,并提供相关检测服务及科研服务。

分子生物学解决方案:该方案包含基因表达,分子克隆,蛋白表达,核酸检测等各分子生物学研究领域所需要的设备及耗材,并提供流程自动化方案和技术服务。

医疗科研解决方案:普迈精医针对医疗科研行业,根据医疗科研人员的实际需求,整合以上多个解决方案,并和众多优秀厂家合作,开发传统科学仪器在医疗上的创新型应用,为客户提供多方位的医疗科研和医疗检验仪器,耗材,技术服务保障。

 

 

 

 

 

 

 

通用实验室设备,分子生物学设备,显微镜,成像设备,科研用耗材

产地类别 国产 应用领域 环保,能源,电子/电池,综合

钙钛矿单结太阳能电池设备和整线解决方案
提供从设备配置、技术服务、到量产工艺优化,以及质量控制的全过程解决方案,满足包含从300mmx300mm到1200mmx2400mm尺寸的全产品线,满足CE/UL标准,承诺PCE 20%@300mmx300mm电池组件、PCE 18%@0.6mx1.2m电池组件。

真空闪蒸及退火设备 VCD & Annealing

钙钛矿/晶硅叠层太阳能电池设备和整线解决方案
在单结钙钛矿太阳能电池设备配置的基础上,提供一步涂布法或干湿两步法的钙钛矿/晶硅叠层电池制备工艺,包含从182mmx182mm到210mmx210mm尺寸的全产品线,满足CE/UL标准,承诺高电池效率。

产品介绍:

狭缝涂布设备 Slot-Die


技术特点:
  • 多段式供液,涂布膜层均匀性高

  • 通过3个激光传感器,实现快速自动对刀、防撞刀

  • 搭配高精度注液泵

  • 可采用钙钛矿溶剂验收

真空闪蒸及退火设备 VCD & Annealing
技术参数:
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真空闪蒸及退火设备 VCD & Annealing

技术特点:
  • 集成闪蒸和退火工艺,成膜环境和成膜过程高度可控

  • 大面积样品退火受热均匀,保证相变一致性

  • 快速去除湿膜中的残余溶剂,均匀的过饱和

  • 变频调速罗茨泵实现抽气速率可控

真空闪蒸及退火设备 VCD & Annealing
技术参数:
真空闪蒸及退火设备 VCD & Annealing

激光划刻设备 Laser Scriber

技术特点:
  • P1、P2、P3飞秒、皮秒红外激光可选

  • 高度定制化,膜面/玻璃面划刻可选,平顶光斑可选

  • 精度高,具备逐线功能,线间距小

  • 工艺成熟,边缘光洁,无火山环及毛边

真空闪蒸及退火设备 VCD & Annealing
技术参数:
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蒸镀设备 Evaporation System

技术特点:
  • 多源共蒸,实现大面积镀膜

  • 热场和温控精确

真空闪蒸及退火设备 VCD & Annealing

技术参数:
真空闪蒸及退火设备 VCD & Annealing

原子层沉积设备 Atomic Layer Deposition

技术特点:
  • 精确控制薄膜厚度

  • 薄膜均匀性高

  • 温控精度高

  • 全自主工艺腔室设计,空间型和时间型可选,多片和单片可选

真空闪蒸及退火设备 VCD & Annealing
技术参数:
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磁控溅射设备  Sputtering System

技术特点:
  • 工艺稳定性高

  • 自研氧化镍反应溅射控制器

  • ITO/NiOx靶采用圆柱靶,靶材利用率高

  • 靶-基距可调,低损伤TCO导电膜镀膜

真空闪蒸及退火设备 VCD & Annealing
技术参数:
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