（2）手日本电子JSM-7610Fplus

（2）手日本电子JSM-7610Fplus产品特点：

JSM-7610F的光学系统经过改进，实现了分辨率（15kV 0.8nm、1kV 1.0nm）的进一步提升，以崭新的JSM-7610FPlus形象亮相。采用半浸没式物镜和High Power Optics照明系统，能提供稳定的高空间分辨率观察和分析。

此外还具备利用GENTLEBEAMTM模式进行低加速电压观察、通过r-filter分选信号等满足各种需求的高扩展性。主要特点如下：

◇ 半浸没式物镜

半浸没式物镜在样品周围形成强磁场，因而可以获得超高分辨率。

◇ High Power Optics

High Power Optics 是电子光学系统，既实现了高倍率观察又能进行多种分析。

浸没式肖特基场发射电子枪，可以获得10 倍于传统肖特基场发射电子枪（FEG）的探针电流，最佳光阑角控制镜（ALC）在探针电流增大时也能保持小束斑，两者组合起来能提供200 nA 以上的探针电流。强大的High Power Optics 系统，从高倍率图像观察到EDS分析和EBSD 解析可以一直使用高分辨率的最小物镜光阑而不需要改换。

浸没式肖特基场发射电子枪銃   

浸没式肖特基场发射电子枪通过和低像差聚光镜组合，可以有效地收集从电子枪内发射的电子。

最佳光阑角控制镜（ACL）

最佳光阑角控制镜（ACL）配置在物镜的上方，在整个探针电流范围内自动优化物镜光阑的角度。因此，即使照射样品的探针电流很大，与传统方式相比，也能获得很小的电子束斑。

即使探针电流很大，束斑直径也很小

长时间分析时稳定度也很高

浸没式消特基场发射电子枪能获得稳定的电子探针

◇ 柔和电子束（GB:GENTLEBEAMTM）模式

 柔和的电子束模式（GB模式）通过给样品添加负电压，从而使电子束在即将撞击样品之前降低着陆电压，因此可以在低加速电压下（100V）进行高分辨观察。

由于电子束在样品中散射区域减小，就会容易地观察样品浅表面的精细结构，能减少对热敏样品的的损伤，可以直接观察非导电性样品。

JSM-7610Plus 在GB模式下（1KV）的分辨率为1.0nm

GB 模式的效果

GB 模式在低电压下提高分辨率

增强了的低加速电压下的分辨率

◇ r-过滤器

新一代 r-过滤器 是由二次电子控制电极，背散射电子控制电极，过滤器电极组合而成的能量过滤器。当电子束照射样品时，从样品表面会释放出各种能量的电子，新一代r-过滤器 通过组合多个静电场使电子束保持在透射系统的中央，同时还对样品中产生的二次样品和背散射电子进行选样和检测。

新新一代 r-过滤器最多能获得3倍于旧机型的信号量。

新一代 r-过滤器 检测信号的方法

◇ LABE检测器（选配件）

     LABE（Low Angle BE）检测器能检测低角度背散射电子。在低加速电压下对样品表面精细的形貌信息，在高加速电压下对样品的组分信息都能进行高分辨观察。     

利用LABE 检测器获取低角度背散射电子像

◇ 扩展性

能谱仪（EDS）

High Power Optics 能充分发挥EDS（SDD）检测器的特长，即使探针电流很大，也不容易饱和。使用低加速电压，大探针电液能在短时间内获取清晰的面分布图。下面的图像显示了在2分针内可以对镍基板表面上极薄的石墨烯薄膜进行分析。

使用基本型SDD nm2 检测器也能在短短的30秒钟内测试100nm厚的多层膜截面。

波谱仪（WDS）

由于High Power Optics 在大探针电流时也能提供很小的电子束斑，因此能充分发挥WDS的特长，使用WDS可以确认用EDS判断的样品的浓度差等。

（2）手日本电子JSM-7610Fplus阴极荧光系统（CL）

阴极荧光是电子束照射样品时产生的发光现象，从样品中发出的光经抛物面反射镜（聚光镜）聚焦后被检测出来。

下面的数据是金刚石（1KW）的二次电子图像和用衍射光栅获得的CL像。用低加速电压观察CL像，可以在高分辨率下观测到金刚石的表面缺陷。