鹏城半导体技术（深圳）有限公司(简称：鹏城半导体），由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点，寻求创新yin/ling与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。
公司核心业务是微纳技术与gao duan精密制造，具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。
公司人才团队知识结构完整，有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队；还有来自工业界的高级装备设计师团队，他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。
公司依托于哈尔滨工业大学（深圳），具备*的半导体研发设备平台和检测设备平台，可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市，具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。
半导体材料,工艺和装备的研发设计,生产制造
生产型TGV/TSV/TMV高真空磁控溅射镀膜机（Sputter-2000W系列）该设备用于玻璃基板和陶瓷基板的高密度通孔和盲孔的镀膜，深径比>10:1。例如：用于基板镀膜工序Cu/Ti微结构，Au/TiW传输导线双体系膜层淀积能力，为微系统集成密度提升提供支撑。
本设备优点：膜层均匀性及重复性高，膜层附着力强，设备依据工艺配方进行可编程自动化控制。
设备结构及性能参数
-单镀膜室、双镀膜室、多腔体镀膜室
-卧式结构、立式结构
-线列式、团簇式
-样品传递：直线式、圆周式
-磁控溅射靶数量及类型：多支矩形磁控靶
-磁控溅射靶：直流、射频、中频、高能脉冲兼容
-基片可加热、可升降、可加偏压
-通入反应气体，可进行反应溅射镀膜
-操作方式：手动、半自动、全自动
-基片托架：根据基片尺寸配置
-基片幅面：2、4、6、8、10英寸及客户zhi/ding尺寸
-进/出样室极限真空度：≤8X10-5Pa
-进/出样室工作背景真空度：≤2X10-3Pa
-镀膜室的极限真空度：5X10-5Pa,
工作背景真空度：8X10-4Pa
-膜层均匀性：<5%（片内），<5%（片间）
-设备总体漏放率：关机12小时真空度≤10Pa
工作条件
类型 | 参数 | 备注 |
| 供电 | ～380V | 三相五线制 |
| 功率 | 根据设备规模配置 | |
| 冷却水循环 | 根据设备规模配置 | |
| 水压 | 1.0～1.5×105Pa | |
| 制冷量 | 根据散热量配置 | |
| 水温 | 18～25℃ | |
| 气动部件供气压力 | 0.5MPa～0.7MPa | |
| 质量流量控制器供气压力 | 0.05MPa～0.2MPa | |
| 工作环境温度 | 10℃～40℃ | |
| 工作环境湿度 | ≤50% |
1-3-6-3-2-7-5-0-0-1-7
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