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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>热工艺设备/热处理设备>退火炉>CY-RTP1000-Φ300-T 1200℃RTP退火炉

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CY-RTP1000-Φ300-T 1200℃RTP退火炉

参考价 ¥ 13300
订货量 ≥1
具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称 郑州成越科学仪器有限公司
  • 品牌
  • 型号 CY-RTP1000-Φ300-T
  • 产地 河南省郑州市高新区
  • 厂商性质 生产厂家
  • 更新时间 2024/12/18 9:17:51
  • 访问次数 100

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郑州成越科学仪器有限公司位于郑州市*开发区,是一家专业从事材料制备设备研发、生产和销售为一体的高科技公司。重点专注于CVD石墨烯制备设备、荧光粉烧结设备、氧化锆生物陶瓷烧结、纳米材料制备、电池材料制备、陶瓷材料的微波烧结、稀有金属的区域提纯等研究发展方向。

郑州成越科学仪器有限公司的研发团队凭借自身在热处理技术方面的专业知识和丰富的实践经验,先后研发出了多款*材料制备设备。主要产品有:微波烧结炉、真空管式炉、箱式电阻炉、高频感应炉、氧化锆烧结炉、荧光粉烧结炉、晶体退火炉、电池材料烧结炉、旋转管式炉、立式管式炉、CVD管式炉等;

其他的产品还有:等离子清洗机、真空手套箱、真空干燥箱、环境模拟测试柜、行星球磨机、高纯石英管、99刚玉管、真空法兰等。

近年来,在社会各界的关心支持下,公司不断发展壮大,与国内外多所高校和科研单位建立起了合作关系;公司还聘请了多位国内外重点高校的教授,博导为公司常年的技术顾问,他们时刻与国内外学术界保持交流,出国访问,并亲临一线指导产品的生产和研发,使我公司的产品不断完善,并紧跟世界研究热点,推出相关的新产品。产品远销欧美、日韩等国家,并在国内外市场获得业界*好评。

如果您正在被国货的产品质量所困扰,选择我们将改变您对国货的某些观念;如果您正在为自己的实验方案的实施而茫然,选择我们将有专业的技术团队为您量身定做!如果您正在为故障设备的售后无人理会而发愁,选择我们一切的问题将由我们负责到底。郑州成越科学仪器有限公司的诚信、实力和产品质量获得业界的认可。欢迎各界朋友莅临参观、指导和业务洽谈。

 

管式炉,气氛炉,马弗炉,等离子磁控溅镀膜仪,等离子清洗机,切断机,抛光机

简单介绍:

1200℃RTP退火炉是一款12寸片快速退火炉,采用革新的加热技术,可实现真正的基底温度测量,不需要采用传统快速退火炉的温度补偿,温度控制**,温度重复性高,客户包括国际上许多半导体公司及科研团队,是半导体制程退火工艺的理想选择


详情介绍:

  • 一些高温陶瓷材料的烧结后处理可以使用 1200℃RTP 退火炉。例如,氧化铝(Al₂O₃)陶瓷在烧结过程中可能会出现残余应力,1200℃快速退火能够有效消除这些残余应力,提高陶瓷材料的机械性能,如强度和韧性。同时,对于含有添加剂的陶瓷材料,退火过程还可以促进添加剂在陶瓷基体中的均匀分布,进一步改善陶瓷的性能。

  • 在某些金属合金的热处理中,1200℃RTP 退火炉也有应用。例如,对于一些高温合金,在熔炼和成型后,1200℃的快速退火可以调整合金的组织结构,细化晶粒,提高合金的高温性能,如高温强度和抗蠕变性能。


技术特色:

• 真正的基片温度测量,无需传统的温度补偿

• 红外卤素管灯加热

• 极其优异的加热温度**性与均匀性

• 快速数字PID温度控制

• 不锈钢冷壁真空腔室

• 系统稳定性好

• 带触摸屏的PC控制

• 兼容常压和真空环境,真空度标准值为5×10-3Torr,采用二级分子泵真空度低至5×10-6Torr

• *高3路气体(MFC控制)

• 没有交叉污染,没有金属污染

  技术参数:

产品名称

1200℃RTP退火炉

产品型号

CY-RTP1000-Φ300-T

基片尺寸

12英寸

基片基座

石英针(可选配SiC涂层石墨基座)

温度范围

150-1200℃

加热速率

10-150℃/S

温度均匀性

≤±1.5% (@800℃, Silicon wafer)

≤±1.0% (@800℃, Substrate on SiC coated graphite susceptor)

温度控制精度

≤ ±3℃

温度重复性

≤ ±3℃

真空度

5.0E-3 Torr / 5.0E-6 Torr

气路供应

标准1路N2吹扫及冷却气路,由MFC控制(*多可选3路)

退火持续时间

≥10min@1200℃

温度控制

快速数字PID控制

尺  寸

890mm*950mm*1400mm


相关分类

氧化扩散设备


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