管式PECVD 科研型扩散氧化炉 单晶硅
参考价 | ¥ 1 |
订货量 | ≥1件 |
具体成交价以合同协议为准
- 公司名称 北京富安时科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号
- 产地
- 厂商性质 生产厂家
- 更新时间 2025/2/7 13:01:03
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价格区间 | 面议 | 应用领域 | 能源,电子/电池,钢铁/金属,航空航天,电气 |
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产品详情:
主要用作半导体、功率器件、集成电路等行业中管式热壁系统的加热装置。可与
美国TEMPRESS、日本TEL等国外多种型号
扩散炉配套(替代进口),选用进口材料,制作而成。可用于2-8英寸硅
片的扩散工艺。
产品说明:
★加热丝:APM A-1
★绝热材料:PMF T2 T3…晶体纤维等
★绝缘子: 高纯刚玉
★端口过渡环:氧化铝氧化锆等真空成型。
★控温段:3段、5段控温
用途:
★半导体扩散炉烧结炉等
★满足4"-8"圆晶扩散炉"
★完整的产品系列
★进口替代
★材料及制造技术,指标优异
★使用温度:室温-1400℃±0.5℃
★控温段:3段、5段控温
用途:
★半导体扩散炉烧结炉等
★满足4"-8"圆晶扩散炉"
★完整的产品系列
★进口替代
★材料及制造技术,指标优异
★使用温度:室温-1400℃±0.5℃
★高温型、普通型、快速升降温型