日本ULVAC爱发科半导体卧式热处理设备
日本ULVAC爱发科半导体卧式热处理设备
卧式热处理设备H系列
这是一款高度可靠的热处理炉，拥有 30 多年的良好记录。可用于200mm硅片的氧化、扩散、退火等热处理。
特征
这是一种卧式炉，用作氧化炉、扩散炉和退火炉。
可以在一台设备上选择不同的进程。
我们的目标是通过使用 3 层或 4 层配置来节省空间。
5 个区域加热器均独立控制，可实现温度控制，具有出色的热均匀性和稳定性。
配备内部控制系统，操作简单可靠。
H83-125和H84-125标配船用升降机，可以轻松装载到上层。
可以进行诸如热解氧化、湿式氧化、干式氧化、使用三氯氧化磷(POCl 3 )和三溴化硼(BBr 3 )的磷扩散、硼扩散和退火等工艺。
目的
硅片的热氧化、扩散和退火
规格
| 模型 | H83-50 | H83-125 | H84-125 |
| 过程 | 氧化、扩散、退火 | ||
| 晶圆直径 | ～200mm（8英寸） | ||
| 级数 | 3 | 3 | 4 |
| 产品晶圆数量 | 50 | 125 | 125 |
| 加热区 | 5 | ||
| 加热器材质 | 铁铬铝 | ||
| 常用温度 | 600～1200℃ | ||
| 浸泡长度 | 370毫米 | 800毫米 | 800毫米 |
| 温度均匀 | ±1.0℃ | ||
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