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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>热工艺设备/热处理设备>退火炉> RTP快速退火炉500Z

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RTP快速退火炉500Z

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      本所自开发RTP快速退火系列产品以来已近30年。自1988年受中科院委托研发光照快速热处理设备以来与清华,北大,浙大,半导体所,微电子所,物理所等高校研究所共同进步,为华为,三安光电,中电科等半导体企业保驾护航,也被一些海外的教授专家所青睐。如香港理工大学,香港中文大学,香港科技大学。美国堪萨斯州立大学,美国扬斯顿州立大学和新加坡南洋理工大学也有数台在科研教学一线。

快速退火炉,真空快速退火炉

RTP快速退火炉500Z
RTP快速退火炉500Z
性能指标 配备状态
温度范围 100 – 1300 ℃
升温速率 2  —  200 ℃/秒可调
密封石英腔内面尺寸 215 X 140X 14 毫米
样品尺寸 4英寸
计算机控制器 PC 机控制,内存 4G,500G硬盘,处理器:I3 以上及快速热处理编程控制软件RTP-500的控制软件.
可编程温度曲线存储1500 条以上, 每条曲线包括100段以上, 温度设定范围 25—1300℃ , 每段时间设定范围1—30000 秒。数据可导出为文本文件便于数据处理。自动优化温控。
温度设定范围 100-1300℃
温度重复性 +/-1℃ 6区控温
测温精确度 100-1300全温度段精度>0.5%
测温装置 K型热电偶
温度曲线 自动记录,保存,文本格式转换,支持彩色分页打印
1000℃连续工作时间 双闭环温度控制,  稳态温度稳定性±2℃ ,1000℃连续工作>1小时
光源 1.25KW X 13 卤钨灯
电源 380 V  40A 三相 四线(三火线, 零线),50/60Hz
水源 自来水或循环水, 水压 1—3 kg / 平方厘米, 流量6-8升/分
冷却方式 水冷,风冷,气冷
安全装置 过温报警,过热报警,过热自动保护,水压报警,水压异常自动保护

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氧化扩散设备


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