THEORIS X302系列 12英寸立式中高温氧化炉

1. 产品概述：

THEORIS X302主要用于12英寸600℃-1200℃氧化及退火工艺。该机台为立式单腔炉管系统，工艺处理过程实现了高度自动化。系统主要由传输模块、工艺模块、电源柜等部分组成。

2. 设备应用：

  晶圆尺寸

  12英寸

  适用材料

  硅

  适用工艺

  高温干/湿氧氧化、DCE氧化、掺氮氧化、高温退火

  适用领域

  先进集成电路、功率半导体、衬底材料

3. 特色参数：

湿氧氧化工艺是在氧气中加入水汽来进行氧化反应。北方华创 THEORIS X302 氧化炉设备在湿氧氧化工艺中表现出色。它能够精确控制水汽的含量和输入方式，以实现对氧化膜生长速率和质量的精准调控。在温度控制上，同样具备高精度的特点，确保在湿氧环境下硅片受热均匀，从而形成均匀、致密的氧化膜。气体流量的调节也非常精准，能够根据工艺需求灵活调整氧气和水汽的比例，满足不同产品对湿氧氧化工艺的特殊要求。其优秀的工艺稳定性和重复性，使得湿氧氧化工艺的结果可预测且可靠。

  4.设备特点

  先进的颗粒控制技术

  先进的金属污染控制技术

  高精度温度场控制技术

  支持快速升/降温度技术

  高产能