VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻机

大光刻面积VPG+：技术的领航
大光刻面积的VPG  +维持原VPG系列为根基再进化，使其更加出色。VPG于2007年推出;  是拥有专量产型曝光技术光刻系统，可靠和经济的解决方案，适用于要求严谨的掩膜板制造。

速度更快：超高速曝光
VPG+系列具有海德堡所研发的高速光学调制器，在速度下，曝光时间可以达到原始VPG的三倍！强化了曝光动能与数据传输路径。

功能和选项：配备性能
VPG  +可配置各种平台尺寸，最大可达1400mmx1400mm。  该系统具有355nm波长的紫外激光源，空气轴承平台，半自动或全自动入料器，用于基板装载的温控环境室。

应用：光罩制造和直接写入
大光刻面积的VPG  +系统适用于advanced packaging, semiconductors, displays, color filters, light  emitting diodes, touch panel以及life  science应用。出色的图像质量和对位功能，也非常适合在大面积执行多层套刻直写。

VPG+  最大型的设备VPG+  1400专门针对显示器相关行业应用：是所有VPG+系列中功能具有极其完善的温控环境室，差分干涉仪和先进的mura校正以及面板间距优化功能。