PECVD 高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积系统
具体成交价以合同协议为准
- 公司名称 深圳市矢量科学仪器有限公司
- 品牌 沈阳科仪
- 型号 PECVD
- 产地
- 厂商性质 经销商
- 更新时间 2025/6/5 18:52:34
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产品概述：
系统主要由3个真空沉积室（分别沉积P、I、N结）、1个进样室、1个中央传输室、平板式电极、基片加热台、工作气路、传送机械手、抽气系统、安装机台、射频电源、甚高频电源、尾气处理装置、真空测量及电控系统等部分组成。
设备用途：
团簇型等离子体化学气相沉积设备（PECVD），采用等离子体增强化学气相沉积技术，在光学玻璃、硅片、石英、不锈钢片等不同衬底材料上，沉积氮化硅、非晶硅、微晶硅、二氧化硅等薄膜，可以制备非晶硅、微晶硅薄膜太阳能电池器件。
真空室结构:
1个中央传输室：蝶形结构；3个沉积室：方形结构； 1个进样室：方形结构
真空室尺寸:
中央传输室：Φ1000×280mm ； 沉积室：260×260×280mm ；进样室：300×300×300mm
极限真空度:
中央传输室：6.67E-4 Pa；沉积室：6.67E-6 Pa ；进样室：6.67 Pa
沉积源:
样品尺寸，温度:
114X114X3mm， 加热温度350度，机械手传递样品
占地面积（长x宽x高）:
约13米x9米x2.3米（设计待定）
电控描述:
全自动
工艺:
在80X80mm范围内硅膜的厚度均匀性优于±5%
特色参数 :
共有8路工作气体
采购中心
化工仪器网