JGP450 高真空磁控溅射薄膜沉积系统
具体成交价以合同协议为准
- 公司名称 深圳市矢量科学仪器有限公司
- 品牌 沈阳科仪
- 型号 JGP450
- 产地
- 厂商性质 经销商
- 更新时间 2025/6/5 18:13:49
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1.产品概述：
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。
2.设备用途：
用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
3.真空室结构:
圆筒形上升盖尺寸例如φ450×350mm，采用不锈钢材料制造，可进行内烘烤，接口处采用金属垫圈或氟橡胶圈密封。
真空室尺寸:φ450×350mm
限真空度:≤6.0E-5Pa包括分子泵和机械泵，通过超高真空闸板阀主抽，并设有旁路抽气
沉积源:永磁靶3套，φ2英寸
样品尺寸，温度:φ2英寸,6片; φ4英寸,1片; 高800℃
占地面积（长x宽x高）:约2米×1.5米×2米
电控描述:全自动
工艺:片内膜厚均匀性：≤±3%
采购中心
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